[發明專利]基板除電機構及使用其的真空處理裝置

有效

• 申請號: 201680028123.3
• 申請日: 2016-05-13
• 公開（公告）號: CN107532291B
• 公開（公告）日: 2019-08-20
• 發明（設計）人: 廣野貴啟
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: C23C14/58
• 分類號: C23C14/58;C23C16/56
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李婷;劉林華

1.一種基板除電機構，其對于在真空中被輸送的膜狀的處理基板，借助磁控管放電進行除電，所述基板除電機構的特征在于，

該基板除電機構具有：

放電用容器，被導入放電氣體；

直線狀的放電電極，在前述放電用容器內以相對于基板輸送方向交叉的方式配置，被施加規定的電壓；

磁鐵，被配置在前述放電電極的附近；

將前述磁鐵配置成使得對應于前述處理基板上的帶電量的分布而關于前述放電電極的長度方向部分地產生放電。

2.如權利要求1所述的基板除電機構，其特征在于，

將前述磁鐵配置成，使前述放電電極的與前述處理基板的兩邊緣部對應的部分產生放電。

3.如權利要求1所述的基板除電機構，其特征在于，

關于前述放電電極的長度方向，配置有該長度方向的長度不同的多個前述磁鐵，使得生成由放電帶來的等離子強的部分和由放電帶來的等離子弱的部分。

4.一種真空處理裝置，前述真空處理裝置的特征在于，

該真空處理裝置具有：

真空槽；

處理源，被配置在前述真空槽內；

膜狀的處理基板，在前述真空槽內被經由規定的輸送路徑輸送，被前述處理源處理；

基板除電機構，被配置在前述輸送路徑的附近；

前述基板除電機構是對在真空中被輸送的處理基板借助磁控管放電進行除電的基板除電機構；前述基板除電機構具有被導入放電氣體的放電用容器、直線狀的放電電極和被配置在前述放電電極的附近的磁鐵，所述直線狀的放電電極在前述放電用容器內以相對于基板輸送方向交叉的方式配置，被施加規定的電壓；將前述磁鐵配置成使得對應于前述處理基板上的帶電量的分布而關于前述放電電極的長度方向部分地產生放電。

5.如權利要求4所述的真空處理裝置，其特征在于，

具有將前述處理基板以夾著的狀態引導而使其行進的引導行進機構；

將前述磁鐵配置成使得在前述放電電極中的與前述處理基板被前述引導行進機構夾著的部分對應的部分處產生放電。

6.如權利要求4或5所述的真空處理裝置，其特征在于，

前述處理源是成膜源。

7.如權利要求6所述的真空處理裝置，其特征在于，

將前述磁鐵配置成使與前述處理基板的非成膜區域對應的部分產生放電。