[發(fā)明專利]具有多個(gè)可彼此分開運(yùn)行的像素的顯示設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680027611.2 | 申請日: | 2016-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN107636832A | 公開(公告)日: | 2018-01-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 亞歷山大·普福伊費(fèi)爾;多米尼克·斯科爾茨 | 申請(專利權(quán))人: | 歐司朗光電半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L33/38;H01L33/62 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227 | 代理人: | 丁永凡,李建航 |
| 地址: | 德國雷*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 多個(gè)可 彼此 分開 運(yùn)行 像素 顯示 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
提出一種顯示設(shè)備。
背景技術(shù)
發(fā)明內(nèi)容
目的是提出一種顯示設(shè)備,所述顯示設(shè)備允許顯示設(shè)備的尤其可靠的、有效的運(yùn)行。
提出一種顯示設(shè)備。顯示設(shè)備尤其包括多個(gè)可彼此分開運(yùn)行的像素,所述顯示設(shè)備包括用于產(chǎn)生電磁輻射的半導(dǎo)體層序列。半導(dǎo)體層序列例如具有第一半導(dǎo)體層、有源層和第二半導(dǎo)體層。顯示設(shè)備例如能夠?yàn)榘l(fā)光二極管,尤其為薄膜發(fā)光二極管,所述發(fā)光二極管不具有用于半導(dǎo)體層序列的生長襯底。
顯示設(shè)備沿豎直方向在第一主平面和第二主平面之間延伸,其中豎直方向能夠橫向于或垂直于第一和/或第二主平面伸展。主平面例如能夠?yàn)樵陲@示設(shè)備的頂面和底面上的主延伸平面。顯示設(shè)備沿橫向方向、即例如至少局部地平行于主平面面狀擴(kuò)展并且沿豎直方向具有如下厚度,所述厚度小于顯示設(shè)備沿橫向方向的最大延伸。
例如,半導(dǎo)體層序序列、尤其有源層包含III-V族化合物半導(dǎo)體材料。III-V族化合物半導(dǎo)體材料尤其適合于在紫外光譜范圍中(AlxInyGa1-x-yN)經(jīng)由可見光譜范圍(尤其對于藍(lán)色至綠色輻射為AlxInyGa1-x-yN,或尤其對于黃色至紅色輻射為AlxInyGa1-x-yP)直至到紅外光譜范圍(AlxInyGa1-x-yAs)中產(chǎn)生輻射。在此分別適用的是0≤x≤1,0≤y≤1并且x+y≤1,尤其x≠1,y≠1,x≠0和/或y≠0。此外,借助尤其出自上述材料體系的III-V族半導(dǎo)體材料,在輻射產(chǎn)生時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)高的內(nèi)部量子效率。
有源層設(shè)置在第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層之間。第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層適當(dāng)?shù)鼐哂斜舜瞬煌膶?dǎo)電類型。尤其地,第一半導(dǎo)體層能夠是p摻雜的半導(dǎo)體層,并且第二半導(dǎo)體層能夠是n摻雜的半導(dǎo)體層。
在制造顯示設(shè)備時(shí),像素優(yōu)選從共同的半導(dǎo)體層序列中產(chǎn)生。與相應(yīng)的像素相關(guān)聯(lián)的半導(dǎo)體層、即半導(dǎo)體層序列的形成像素的橫向區(qū)域能夠關(guān)于其材料組成和其層厚度方面除了制造引起的波動(dòng)之外與同顯示設(shè)備的另一像素相關(guān)聯(lián)的半導(dǎo)體層相同。
例如,顯示設(shè)備具有載體。載體例如能夠具有多個(gè)開關(guān),所述開關(guān)分別為了控制至少一個(gè)像素而與相應(yīng)的像素相關(guān)聯(lián)。載體例如能夠機(jī)械地穩(wěn)定半導(dǎo)體層序列。
第一主平面例如位于半導(dǎo)體層序列的背離載體的一側(cè)上。相應(yīng)地,第二主平面例如位于載體的背離半導(dǎo)體層序列的一側(cè)上。
在至少一個(gè)實(shí)施方式中,顯示設(shè)備包括用于接觸第一半導(dǎo)體層的第一接觸結(jié)構(gòu)。此外,顯示設(shè)備包括用于接觸第二半導(dǎo)體層的第二接觸結(jié)構(gòu)。
第一接觸結(jié)構(gòu)示例性地設(shè)置在半導(dǎo)體層序列和載體之間。第一接觸結(jié)構(gòu)尤其與第一半導(dǎo)體層導(dǎo)電連接。借助于第一接觸結(jié)構(gòu)可從第二主平面起電接觸第一半導(dǎo)體層。
例如,第一接觸結(jié)構(gòu)由金屬層或金屬層堆構(gòu)成。優(yōu)選地,第一接觸結(jié)構(gòu)具有光學(xué)鏡作用。例如,第一接觸結(jié)構(gòu)由如Al、Ag、Au或Rh的材料構(gòu)成或者具有這種材料。尤其地,第一接觸結(jié)構(gòu)的層厚度在50nm和500nm之間。
附加地或替選地,在半導(dǎo)體層序列和金屬層或金屬層堆之間引入透明導(dǎo)電氧化物(TCO)。例如,所述透明導(dǎo)電氧化物由如ITO、SnO、ZnO的材料構(gòu)成或者具有這種材料。尤其地,這種層的層厚度小于100nm。
附加地,在透明導(dǎo)電氧化物層和金屬層或金屬層堆之間能夠設(shè)置有電介質(zhì)或介電的層堆。示例性地,所述電介質(zhì)或介電的層堆由SiO2構(gòu)成或具有SiO2。尤其地,其層厚度在100nm和1000nm之間。電介質(zhì)或介電的層堆例如能夠具有凹部,尤其是分隔開的。因此,透明導(dǎo)電氧化物層和金屬層或金屬層堆之間存在導(dǎo)電連接。
第二接觸結(jié)構(gòu)例如同樣設(shè)置在載體和半導(dǎo)體層序列之間。第二接觸結(jié)構(gòu)尤其與第二半導(dǎo)體層導(dǎo)電連接。借助于第二接觸結(jié)構(gòu),可從第二主平面起電接觸第二半導(dǎo)體層。
第一接觸結(jié)構(gòu)和/或第二接觸結(jié)構(gòu)或其至少一個(gè)子層例如構(gòu)成為是反射性的,尤其關(guān)于在顯示設(shè)備運(yùn)行時(shí)產(chǎn)生的輻射是反射性的。
在至少一個(gè)實(shí)施方式中,第一接觸結(jié)構(gòu)具有可彼此分開運(yùn)行的第一接觸部。第一接觸部分別橫向無中斷地沿著第一半導(dǎo)體層延伸。第一接觸部借助其輪廓分別對像素橫向限界。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





