[發(fā)明專利]磁性隧道結(jié)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680025720.0 | 申請(qǐng)日: | 2016-03-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107534084B | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 強(qiáng)納森·D·哈瑪斯;陳偉;蘇尼爾·S·默西;維托·庫(kù)拉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 美光科技公司 |
| 主分類號(hào): | H01L43/08 | 分類號(hào): | H01L43/08 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 王龍 |
| 地址: | 美國(guó)愛*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁性 隧道 | ||
本發(fā)明揭示一種磁性隧道結(jié),其具有包括磁性記錄材料的導(dǎo)電第一磁性電極。導(dǎo)電第二磁性電極與所述第一電極隔開且包括磁性參考材料。非磁性隧道絕緣體材料在所述第一電極與第二電極之間。所述第一電極的所述磁性記錄材料包括第一磁性區(qū)域、與所述第一磁性區(qū)域隔開的第二磁性區(qū)域、及與所述第一及第二磁性區(qū)域隔開的第三磁性區(qū)域。包括金屬氧化物的第一非磁性絕緣體區(qū)域在所述第一與第二磁性區(qū)域之間。包括金屬氧化物的第二非磁性絕緣體區(qū)域在所述第二與第三磁性區(qū)域之間。本發(fā)明揭示其它實(shí)施例。
技術(shù)領(lǐng)域
本文所揭示的實(shí)施例涉及磁性隧道結(jié)、形成磁性隧道結(jié)的磁性電極的方法、及形成磁性隧道結(jié)的方法。
背景技術(shù)
磁性隧道結(jié)是具有由薄的非磁性隧道絕緣體材料(例如電介質(zhì)材料)分離的兩個(gè)導(dǎo)電磁性電極的集成電路組件。絕緣體材料足夠薄,使得電子可在適當(dāng)條件下穿過絕緣體材料而從一個(gè)磁性電極穿隧到另一磁性電極。磁性電極中的至少一者可在正常操作寫入或擦除電流/電壓下使其總體磁化方向在兩個(gè)狀態(tài)之間切換,且通常指稱“自由”或“記錄”電極。另一磁性電極通常指稱“參考”、“固定”或“釘扎”電極,且其總體磁化方向?qū)⒉粫?huì)在施加正常操作寫入或擦除電流/電壓之后切換。參考電極及記錄電極電耦合到相應(yīng)導(dǎo)電節(jié)點(diǎn)。通過參考電極、絕緣體材料及記錄電極的那兩個(gè)節(jié)點(diǎn)之間的電阻取決于相對(duì)于參考電極的磁化方向的記錄電極的磁化方向。因此,可將磁性隧道結(jié)編程到至少兩個(gè)狀態(tài)中的一者中,且可通過測(cè)量通過磁性隧道結(jié)的電流來感測(cè)那些狀態(tài)。由于可將磁性隧道結(jié)“編程”于兩個(gè)導(dǎo)電狀態(tài)之間,所以已提出將磁性隧道結(jié)用于存儲(chǔ)器集成電路中。另外,磁性隧道結(jié)除用于存儲(chǔ)器中之外,還可用于邏輯電路或其它電路中。
可由電流誘發(fā)的外部磁場(chǎng)或通過使用自旋極化電流來切換記錄電極的總體磁化方向以導(dǎo)致自旋轉(zhuǎn)移力矩(STT)效應(yīng)。電荷載子(例如電子)具有稱為“自旋”的性質(zhì),其是載子固有的少量角動(dòng)量。電流一般是非極化的(具有約50%“向上自旋”電子及約50%“向下自旋”電子)。自旋極化電流是具有顯著更多的任一自旋電子的電流。可通過使電流通過某一磁性材料(有時(shí)也指稱極化體材料)來產(chǎn)生自旋極化電流。如果將自旋極化電流引導(dǎo)到磁性材料中,那么可將自旋角動(dòng)量轉(zhuǎn)移到所述材料,借此影響其磁化定向。此可在自旋極化電流具有足夠量值時(shí)用于激發(fā)振蕩或甚至翻轉(zhuǎn)(即,切換)磁性材料的定向/域方向。
Co及Fe的合金或其它混合物是一種常見材料,其被提出用作為極化體材料及/或磁性隧道結(jié)中的記錄電極的磁性記錄材料的至少部分。更具體實(shí)例是CoxFeyBz(其中x及y各自是10到80且z是0到50),且可縮寫為CoFe或CoFeB。MgO是用于非磁性隧道絕緣體的理想材料。理想地,此類材料是各自具有體心立方(bcc)001晶格的晶體。可使用任何適合技術(shù)(例如,通過物理氣相沉積)來沉積此類材料。可用于最終產(chǎn)生此類材料的bcc 001晶格的一種技術(shù)包含:首先使CoFe形成為非晶的且將包括MgO的隧道絕緣體材料沉積于CoFe上。在沉積期間及/或在沉積之后,MgO隧道絕緣體、CoFe及隧道絕緣體理想地個(gè)別實(shí)現(xiàn)均勻bcc 001晶格結(jié)構(gòu)。
硼通常經(jīng)沉積為CoFe的部分以確保或提供CoFe的初始非晶沉積。可在MgO的沉積期間或在MgO的沉積之后通過在至少約250℃的溫度下使襯底退火而發(fā)生CoFe的結(jié)晶。此將誘發(fā)B原子從經(jīng)形成以允許結(jié)晶成bcc 001CoFe的CoFe基質(zhì)擴(kuò)散出。Bcc 001MgO在CoFe的結(jié)晶期間充當(dāng)模板。然而,完成的磁性隧道結(jié)構(gòu)造中的B,具體來說,CoFe/MgO界面處或MgO晶格內(nèi)的B不合意地減小磁性隧道結(jié)的穿隧磁阻(TMR)。
附圖說明
圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的包括磁性隧道結(jié)的襯底片段的示意剖面圖。
圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的包括磁性隧道結(jié)的襯底片段的示意剖面圖。
圖3是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的包括磁性隧道結(jié)的襯底片段的示意剖面圖。
圖4是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的包括磁性隧道結(jié)的襯底片段的示意剖面圖。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于美光科技公司,未經(jīng)美光科技公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680025720.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





