[發明專利]電荷傳輸性膜、有機電致發光元件及它們的制造方法

有效

• 申請號: 201680023237.9
• 申請日: 2016-04-07
• 公開（公告）號: CN107535031B
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 東將之
• 申請（專利權）人: 日產化學工業株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;H01L51/50
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

一種具有50nm～300nm范圍內的膜厚的電荷傳輸性膜的制造方法，其具備下述工序：將包含僅由N,N'?二芳基聯苯胺衍生物組成的電荷傳輸性物質、摻雜劑物質和有機溶劑的電荷傳輸性膜形成用清漆涂布在基材上的工序；以及，將所得涂膜以下述式(S1)所示的燒成溫度進行燒成的工序。燒成溫度>[232.5℃+(前述膜厚/20nm)×5℃](S1)。

技術領域

本發明涉及電荷傳輸性膜的制造方法和電荷傳輸性膜、以及提高電荷傳輸性膜的電荷傳輸性的方法。

背景技術

有機電致發光(以下稱為有機EL)元件中，作為發光層、電荷注入層，可以使用包含有機化合物的電荷傳輸性膜。尤其是，空穴注入層承擔陽極與空穴傳輸層或發光層之間的電荷授受，對于實現有機EL元件的低電壓驅動和高亮度而言發揮出重要功能。

空穴注入層的形成方法大致分為以蒸鍍法為代表的干式工藝和以旋涂法為代表的濕式工藝，將這些各工藝進行對比時，濕式工藝更能夠有效地制造大面積且平坦性高的薄膜。因此，在有機EL顯示器日益大面積化的今天，期望能夠利用濕式工藝來形成的空穴注入層。

鑒于這種情況，本發明人等開發了能夠應用于各種濕式工藝且應用于有機EL元件的空穴注入層時會賦予能夠實現優異EL元件特性的薄膜的電荷傳輸性材料、對于其中使用的有機溶劑的溶解性良好的化合物(例如參照專利文獻1～4)。

但是，關于空穴注入層用的濕式工藝材料，要求不斷地進行改善，特別要求會賦予電荷傳輸性優異的薄膜的濕式工藝材料。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：國際公開第2008/032616號

專利文獻2：國際公開第2008/129947號

專利文獻3：國際公開第2006/025342號

專利文獻4：國際公開第2010/058777號

專利文獻5：日本特開2009-64696號

發明內容

發明要解決的問題

然而，有機EL元件的結構可大致分為底部發光結構和頂部發光結構。底部發光結構的元件中，在基板側使用透明陽極，從基板側取出光，與此相對，頂部發光結構的元件中使用由金屬形成的反射陽極，從存在于基板反方向的透明電極(陰極)側取出光。

頂部發光結構的元件不像底部發光結構的元件那樣地從基板側取出光，因此不存在源自發光層的光被TFT遮擋的問題，因此，頂部發光結構的元件存在能夠保持高開口率的優點。其結果，光取出效率提高，能夠實現元件的低耗電化、長壽命化，因此，近年來的頂部發光結構的元件備受關注。

關于這種頂部發光結構的元件，已知在自發光層的發光面起至反射陽極為止的光學距離滿足特定條件的情況下，通過干涉效應而實現光取出效率的提高(例如參照專利文獻5)。因此，出于通過干涉效應來提高光取出效率的目的而嘗試設定與發光波長相符的自發光面起至反射陽極為止的光學距離時，為了實現最佳條件而要求具有用于確保充分長度的光學距離的厚度的空穴注入層等電荷傳輸性膜。

本發明是鑒于上述情況而進行的，其目的在于，提供即使在膜厚較厚的情況下也顯示出高電荷傳輸性、應用于有機EL元件的空穴注入層時能夠實現優異特性的電荷傳輸性膜的制造方法、電荷傳輸性膜、有機電致發光元件、有機電致發光元件的制造方法、提高電荷傳輸性膜的電荷傳輸性的方法。

用于解決問題的方案