[發明專利]層疊體及阻氣膜有效
| 申請號： | 201680021107.1 | 申請日： | 2016-04-15 |
| 公開（公告）號： | CN107428126B | 公開（公告）日： | 2020-11-03 |
| 發明（設計）人： | 堀池喬文;佐藤盡;高島菜穗 | 申請（專利權）人： | 凸版印刷株式會社 |
| 主分類號： | B32B27/36 | 分類號： | B32B27/36;B32B27/08;B32B27/32;C23C16/30;C23C16/56;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 張蘇娜;常海濤 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 層疊 阻氣膜 | ||
【權利要求書】：
1.一種層疊體，其具備：
基材；
原子層沉積膜，其配置于所述基材的至少一面上且由無機材料形成；以及
保護膜，其以覆蓋所述原子層沉積膜的方式貼附于所述原子層沉積膜，并具有與所述原子層沉積膜接觸的粘合層，
所述保護膜以可以從所述原子層沉積膜的外表面剝落的狀態、且以覆蓋所述原子層沉積膜的外表面的方式來貼附，并且，
所述粘合層的粘合力為10cN/25mm以上且小于200cN/25mm，
所述保護膜的厚度為10μm以上200μm以下，并且
所述保護膜中，所述粘合層的厚度為5μm以上30μm以下。
2.根據權利要求1所述的層疊體，其中，所述原子層沉積膜的厚度為2nm以上500nm以下。
3.根據權利要求1或2所述的層疊體，其中，所述原子層沉積膜為
無機氧化膜、無機氮化膜或無機氮氧化膜的無機單層膜、
由所述無機氧化膜、所述無機氮化膜及所述無機氮氧化膜中的二種以上的膜形成的無機層疊膜、或
無機混合膜，
所述無機單層膜、所述無機層疊膜及所述無機混合膜包含選自由Al、Ti、Si、Zn、Sn、Zr、Hf及Ta構成的組的至少一種。
4.一種阻氣膜，其包含根據權利要求1至3中任一項所述的層疊體。
5.根據權利要求4所述的阻氣膜，其中，所述層疊體的水蒸氣透過率為0.01g/(m2·day)以下。
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