[發明專利]經顱磁刺激裝置用線圈裝置及其制造方法

有效

• 申請號: 201680020711.2
• 申請日: 2016-03-30
• 公開（公告）號: CN107708611B
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發明（設計）人: 齋藤洋一;關野正樹;山本啟太
• 申請（專利權）人: 國立大學法人東京大學;國立大學法人大阪大學
• 主分類號: A61N2/04
• 分類號: A61N2/04
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 閆小龍;鄭冀之

1.一種經顱磁刺激裝置用線圈裝置，將繞線線圈放置在頭部表面上或其附近，利用電磁感應在腦內的磁刺激對象區域中產生由感應電場引起的電流來對神經元進行刺激，所述線圈裝置的特征在于，

所述繞線線圈是具備在所述頭部表面上或其附近配置的近頭部表面導線部以及與所述近頭部表面導線部相比遠離所述頭部表面來配置的遠頭部表面導線部的拱頂型線圈，

以使所述感應電場強度與所述磁刺激對象區域的周邊區域相比較增大的方式設定所述拱頂型線圈的所述近頭部表面導線部與所述遠頭部表面導線部之間的距離的最大值即線圈的高度，并且，通過在將所述產生的感應電場強度的分布保持為固定的狀態下使所述線圈的高度發生變化，從而將所述線圈的高度設定為最佳值。

2.根據權利要求1所述的經顱磁刺激裝置用線圈裝置，其特征在于，設定為使所述線圈的高度發生變化，以使所述線圈裝置的電感進入到規定的電感范圍并且所述感應電場進入到頭部表面上的規定的分布內。

3.根據權利要求2所述的經顱磁刺激裝置用線圈裝置，其特征在于，所述電感范圍為5μH以上且為13μH以下。

4.一種經顱磁刺激裝置用線圈裝置的制造方法，所述經顱磁刺激裝置用線圈裝置是如下的線圈裝置，即，將繞線線圈放置在頭部表面上或其附近，利用電磁感應在腦內的磁刺激對象區域中產生由感應電場引起的電流來對神經元進行刺激，所述制造方法的特征在于，

所述繞線線圈是具備在所述頭部表面上或其附近配置的近頭部表面導線部以及與所述近頭部表面導線部相比遠離所述頭部表面來配置的遠頭部表面導線部的拱頂型線圈，

所述制造方法包含如下步驟：

以使所述感應電場強度與所述磁刺激對象區域的周邊區域相比較增大的方式設定所述拱頂型線圈的所述近頭部表面導線部與所述遠頭部表面導線部之間的距離的最大值即線圈的高度，并且，通過在將所述產生的感應電場強度的分布保持為固定的狀態下使所述線圈的高度發生變化，從而將所述線圈的高度設定為最佳值。

5.根據權利要求4所述的制造方法，其特征在于，包含如下步驟：設定為使所述線圈的高度發生變化，以使所述線圈裝置的電感進入到規定的電感范圍并且所述感應電場進入到頭部表面上的規定的分布內。

6.根據權利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述電感范圍為5μH以上且為13μH以下。