[發(fā)明專(zhuān)利]布局方法、標(biāo)記檢測(cè)方法、曝光方法、測(cè)量裝置、曝光裝置、以及組件制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680018342.3
• 申請(qǐng)日: 2016-03-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107430356B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柴崎祐一
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社尼康
• 主分類(lèi)號(hào): G03F9/00
• 分類(lèi)號(hào): G03F9/00;G03F7/20;H01L21/68
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 肖靖

1.一種多個(gè)標(biāo)記的布局方法，該多個(gè)標(biāo)記供使用沿著既定面內(nèi)的第1方向以既定間隔配置有檢測(cè)中心的2以上的N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系檢測(cè)且形成于基板上，其特征在于：

在前述基板上，在前述第1方向及在前述既定面內(nèi)與其交叉的第2方向形成多個(gè)區(qū)劃區(qū)域，且在前述第1方向分離的至少2個(gè)標(biāo)記所屬的組以前述區(qū)劃區(qū)域在前述第1方向的長(zhǎng)度的間隔沿著前述第1方向重復(fù)配置；

屬于前述各組的標(biāo)記彼此在前述第1方向分離根據(jù)前述N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系的前述第1方向的配置與前述長(zhǎng)度定出的間隔量，

其中，屬于前述各組的標(biāo)記彼此在前述第1方向分離下述間隔量，亦即，該間隔量為將在前述N為偶數(shù)時(shí)前述N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系分組成互異的2個(gè)一組的N/2組、或者在前述N為奇數(shù)時(shí)前述N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系中除了既定1個(gè)以外的剩余的(N－1)個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系分組成互異的2個(gè)一組的(N－1)/2組中的各組的標(biāo)記檢測(cè)系彼此間在前述第1方向的距離除以前述長(zhǎng)度所得的余數(shù)的間隔量。

2.如權(quán)利要求1所述的布局方法，其中，在前述各組的標(biāo)記檢測(cè)系彼此在前述第1方向的距離包含互異的距離D1與D2時(shí)，

屬于前述各組的標(biāo)記包含以前述距離D1及D2分別除以前述長(zhǎng)度所得的余數(shù)的間隔d₁及d₂量在前述第1方向分離的二組2個(gè)一組的標(biāo)記。

3.如權(quán)利要求2所述的布局方法，其中，前述二組標(biāo)記有1個(gè)標(biāo)記為共通。

4.一種多個(gè)標(biāo)記的布局方法，該多個(gè)標(biāo)記供使用2以上的N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系檢測(cè)且形成于基板上，其特征在于：

在前述基板上，在第1方向及與前述第1方向交叉的第2方向界定出多個(gè)區(qū)劃區(qū)域，且形成于前述多個(gè)區(qū)劃區(qū)域的各個(gè)區(qū)劃區(qū)域的至少1個(gè)標(biāo)記的配置是根據(jù)前述N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系的檢測(cè)位置在前述第1方向的位置關(guān)系與前述區(qū)劃區(qū)域在前述第1方向的長(zhǎng)度或根據(jù)前述N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系的檢測(cè)位置與前述區(qū)劃區(qū)域在前述第1方向的長(zhǎng)度來(lái)決定；

前述N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系包含第1標(biāo)記檢測(cè)系與第2標(biāo)記檢測(cè)系；

以在前述多個(gè)區(qū)劃區(qū)域中的1個(gè)區(qū)劃區(qū)域形成的多個(gè)標(biāo)記的1個(gè)標(biāo)記能以前述第1標(biāo)記檢測(cè)系檢測(cè)、且在從前述1個(gè)區(qū)劃區(qū)域往前述第1方向分離的另一區(qū)劃區(qū)域形成的多個(gè)標(biāo)記的1個(gè)標(biāo)記能以前述第2標(biāo)記檢測(cè)系檢測(cè)的方式，決定形成于前述多個(gè)區(qū)劃區(qū)域的各個(gè)區(qū)劃區(qū)域的多個(gè)標(biāo)記的配置，

根據(jù)將前述第1標(biāo)記檢測(cè)系的檢測(cè)位置與前述第2標(biāo)記檢測(cè)系的檢測(cè)位置在前述第1方向的距離除以前述長(zhǎng)度所得的余數(shù)，決定形成于前述多個(gè)區(qū)劃區(qū)域的各個(gè)區(qū)劃區(qū)域的多個(gè)標(biāo)記的配置。

5.如權(quán)利要求4所述的布局方法，其中，前述位置關(guān)系包含前述N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系的檢測(cè)位置彼此在前述第1方向的距離。

6.如權(quán)利要求4所述的布局方法，其中，前述至少1個(gè)標(biāo)記包含在前述第1方向分離的多個(gè)標(biāo)記；

在前述第1方向分離的前述多個(gè)標(biāo)記所形成的位置在前述多個(gè)區(qū)劃區(qū)域的各個(gè)區(qū)劃區(qū)域中大致相同。

7.如權(quán)利要求4所述的布局方法，其中，以能與使用前述第1標(biāo)記檢測(cè)系的檢測(cè)并行進(jìn)行使用前述第2標(biāo)記檢測(cè)系的檢測(cè)的方式，決定形成于前述多個(gè)區(qū)劃區(qū)域的各個(gè)區(qū)劃區(qū)域的多個(gè)標(biāo)記的配置。

8.如權(quán)利要求4所述的布局方法，其中，以由前述第1標(biāo)記檢測(cè)系檢測(cè)的前述標(biāo)記在前述1個(gè)區(qū)劃區(qū)域內(nèi)的前述第1方向的位置與以前述第2標(biāo)記檢測(cè)系檢測(cè)的前述標(biāo)記在前述另一區(qū)劃區(qū)域內(nèi)的前述第1方向的位置不同的方式，決定形成于前述多個(gè)區(qū)劃區(qū)域的各個(gè)區(qū)劃區(qū)域的多個(gè)標(biāo)記的配置。

9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的布局方法，其中，前述標(biāo)記為繞射格子標(biāo)記。

10.一種標(biāo)記檢測(cè)方法，對(duì)于使用權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的布局方法而形成于基板上的多個(gè)標(biāo)記，使用前述N個(gè)標(biāo)記檢測(cè)系檢測(cè)。