[發明專利]雙重彎曲X射線聚光元件及其結構體、雙重彎曲X射線分光元件及其結構體的制造方法

有效

• 申請號: 201680018150.2
• 申請日: 2016-03-23
• 公開（公告）號: CN107408417B
• 公開（公告）日: 2019-06-21
• 發明（設計）人: 河原直樹
• 申請（專利權）人: 株式會社理學
• 主分類號: G21K1/06
• 分類號: G21K1/06;G01N23/223
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉卓然

本發明的雙重彎曲X射線分光元件(1)夾持于凸模成形夾具(21)所具有的雙重彎曲凸面(21a)、與凹模成形夾具(22)所具有的與雙重彎曲凸面(21a)吻合的雙重彎曲凹面(22a)之間，在加熱到400℃～600℃、按照具有雙重彎曲面的形狀而變形的玻璃板(3)的凹面(3a)上，形成反射X射線的反射膜(5)。

相關申請

本申請要求申請日為2015年3月26日、申請號為JP特愿 2015—063764號申請的優先權，通過參照其整體，將其作為構成 本申請的一部分的內容而進行引用。

技術領域

本發明涉及雙重彎曲X射線聚光元件、雙重彎曲X射線分光 元件和具有它的裝置與該元件的制造方法。

背景技術

在過去，人們知道有對X射線進行聚光和/或分光，于1個方向或2個方向呈凹面狀的彎曲X射線分光元件。特別是，為了有效地對X射線進行分光、聚光，必須要求采用于2個方向具有凹型的大的面積的分光面的雙重彎曲X射線分光元件。關于這一點，一般進行如下制膜，即對預先呈規定的雙重彎曲形狀而機械加工的襯底進行分光多層膜的制造，但是，具有下述的問題，即襯底的表面粗糙度按照均方根粗糙度計，必須要求數個(數nm×10^－1)，這樣的雙重彎曲形狀的研磨要求高的技術和許多的勞力，造成極高的成本，用途被限定。另外，人們知道有單硅晶的平板部件通過陰極連接而接合于規定的彎曲形狀的襯底上得到的X射線分光元件(專利文獻1、2)，但是，必須要求彈性地使平板部件變形，由此，具 有變形后的彎曲形狀的自由度低的問題。于是，具有使Si、Ge等 的結晶板升溫到其熔點附近的溫度，通過規定的凹凸模，施加荷 載，進行熱塑性變形而制作的結晶透鏡(專利文獻3)。

已有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：JP特開平8—201589號公報

專利文獻2：JP特開平8—201593號公報

專利文獻3：WO2006/022333號公報

發明內容

發明要解決的課題

但是，在于專利文獻3中記載的結晶透鏡的制作方法中，具 有下述的問題，即，為了進行高溫下的加壓變形處理，必須要求 特殊的設備，另外，不僅對成形模的宏觀形狀，而且對X射線反 射特性產生影響的微觀形狀(成形模的表面粗糙度)也轉印到成形 件上，即使在其上形成X射線反射膜或人工累積膜，仍無法獲得 所需的性能。

于是，本發明是針對上述過去的問題而提出的，本發明的目 的在于提供一種雙重彎曲X射線聚光元件、雙重彎曲X射線分光 元件和具有它的裝置與該元件的低價格的簡單的制造方法，即使 在通過成形夾具而加熱變形的情況下，仍不受到凸模成形夾具的 雙重彎曲凸面的表面粗糙度的影響，在具有與加熱變形前相同的 表面粗糙度的玻璃板的凹面中形成膜，聚光性能和/或分光性能極 為良好。

用于解決課題的技術方案

為了實現上述目的，本發明的第1方案的雙重彎曲X射線聚 光元件由在玻璃板的凹面上形成反射X射線的反射膜來得到，該 玻璃板夾持于：凸模成形夾具所具有的雙重彎曲凸面、與凹模成 形夾具所具有的同上述雙重彎曲凸面吻合的雙重彎曲凹面之間， 在加熱到400℃～600℃，按照具有雙重彎曲面的形狀而變形。

按照第1方案的雙重彎曲X射線聚光元件，由于玻璃板夾持 于雙重彎曲凸面、與和其吻合的雙重彎曲凹面之間，加熱到400℃ ～600℃，按照具有雙重彎曲面的形狀而變形，其結果是，玻璃板 不受到凸模成形夾具的雙重彎曲凸面的表面粗糙度的影響，具有 與加熱變形之前相同的表面粗糙度，在該玻璃板的凹面上形成反 射膜，故聚光性能極為良好。

本發明的第2方案的雙重彎曲X射線聚光元件結構體包括： 第1方案的雙重彎曲X射線聚光元件、與固接于上述雙重彎曲X 射線聚光元件的基座。