[發明專利]測量工具、校準方法、校準裝置和程序有效
| 申請號: | 201680009757.4 | 申請日: | 2016-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN107407558B | 公開(公告)日: | 2020-02-25 |
| 發明(設計)人: | 吉田克信;青木伸 | 申請(專利權)人: | 株式會社理光 |
| 主分類號: | G01C3/00 | 分類號: | G01C3/00;G01C3/06 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 龔偉;李鶴松 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 工具 校準 方法 裝置 程序 | ||
1.一種測量工具,包括:
第一構件,具有包括圖表的表面,所述圖表用于立體相機的校準;以及
測量構件,被布置在所述第一構件的表面上,其中
所述測量構件包括:
光源,用于不管表面上的位置而發射具有均勻強度的光,
第二構件,用于覆蓋光源并且從多個第一孔和尺寸大于第一孔的多個第二孔放射光,
所述第二構件包括彼此平行的兩個平板,并且其中以第一間隔來提供在垂直于表面的方向上鉆出的所述多個第一孔,并且以第二間隔來提供在垂直于表面的方向上鉆出的所述多個第二孔,
所述第一孔位于相應的兩個平板的表面上的相同位置,并且
所述第二孔位于相應的兩個平板的表面上的相同位置。
2.根據權利要求1所述的測量工具,其中所述兩個平板通過所述兩個平板之間的透明材料進行固定。
3.根據權利要求1或2所述的測量工具,其中
所述第一間隔不大于在立體相機和測量工具之間的校準距離內的立體相機的分辨率極限。
4.根據權利要求1或2所述的測量工具,其中
所述第二孔中的每個具有矩形形狀,并且
所述第二孔以第二間隔被鉆出在水平方向上所述第二構件的上端部和下端部中的至少一個,以及在垂直方向上所述第二構件的右端部和左端部中的至少一個。
5.一種通過測量工具來校準立體相機的校準方法,所述測量工具包括:第一構件,具有包括圖表的表面,所述圖表用于立體相機的校準;以及測量構件,被布置在所述第一構件的表面上,所述測量構件包括:光源,用于不管表面上的位置而發射具有均勻強度的光;以及第二構件,用于覆蓋光源并且從多個第一孔和尺寸大于第一孔的多個第二孔放射光,所述校準方法包括以下步驟:
獲取捕獲圖像,其包括由立體相機捕獲到的測量工具作為對象;
基于捕獲圖像中包括的多個第二孔的圖中的最大亮度的位置,來指定在捕獲圖像中包括的多個第一孔的圖中的最大亮度的位置,并且基于所述多個第一孔的圖中的最大亮度的指定位置,來測量所述測量工具的朝向從與所述立體相機的直接面對位置的位移;以及
基于所述測量工具的朝向上的位移和所述捕獲圖像來確定用于校準立體相機的校準參數。
6.根據權利要求5所述的校準方法,其中確定步驟包括以下步驟:
從捕獲圖像計算所述圖表的視差;
計算考慮到測量工具的朝向上位移的理想視差;以及
基于視差和理想視差,確定用于校準立體相機的校準參數。
7.一種校準裝置,包括:
接收器,用于接收由立體相機捕獲的捕獲圖像,所述捕獲圖像包括作為對象的測量工具,所述測量工具包括:第一構件,具有包括圖表的表面,所述圖表用于立體相機的校準;以及測量構件,被布置在所述第一構件的表面上,所述測量構件包括:光源,用于不管表面上的位置而發射具有均勻強度的光;以及第二構件,用于覆蓋光源并且從多個第一孔和尺寸大于第一孔的多個第二孔放射光;
測量器,用于基于捕獲圖像中包括的多個第二孔的圖中的最大亮度的位置,來指定在捕獲圖像中包括的多個第一孔的圖中的最大亮度的位置,并且基于所述多個第一孔的圖中的最大亮度的指定位置,來測量所述測量工具的朝向從與所述立體相機的直接面對位置的位移;以及
確定器,用于基于所述測量工具的朝向上的位移和所述捕獲圖像來確定用于校準立體相機的校準參數。
8.一種使得計算機執行如下功能的程序:
接收器,用于接收由立體相機捕獲的捕獲圖像,所述捕獲圖像包括作為對象的測量工具,所述測量工具包括:第一構件,具有包括圖表的表面,所述圖表用于立體相機的校準;以及測量構件,被布置在所述第一構件的表面上,所述測量構件包括:光源,用于不管表面上的位置而發射具有均勻強度的光;以及第二構件,用于覆蓋光源并且從多個第一孔和尺寸大于第一孔的多個第二孔放射光;
測量器,用于基于捕獲圖像中包括的多個第二孔的圖中的最大亮度的位置,來指定在捕獲圖像中包括的多個第一孔的圖中的最大亮度的位置,并且基于所述多個第一孔的圖中的最大亮度的指定位置,來測量所述測量工具的朝向從與所述立體相機的直接面對位置的位移;以及
確定器,用于基于所述測量工具的朝向上的位移和所述捕獲圖像來確定用于校準立體相機的校準參數。
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