[發明專利]聚合物及正型抗蝕劑組合物

在審

• 申請號: 201680009481.X
• 申請日: 2016-02-15
• 公開（公告）號: CN107207666A
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發明（設計）人: 星野學
• 申請（專利權）人: 日本瑞翁株式會社
• 主分類號: C08F212/06
• 分類號: C08F212/06;C08F220/22;G03F7/039;G03F7/20
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙)11413
• 代理人: 趙曦,劉繼富

技術領域

本發明涉及聚合物及正型抗蝕劑組合物，特別涉及可良好地用作正型抗蝕劑的聚合物及包含該聚合物的正型抗蝕劑組合物。

背景技術

以往，在半導體制造等領域中，作為主鏈切斷型的正型抗蝕劑，使用了在電子束等電離放射線、紫外線等短波長的光(以下，有時將電離放射線和短波長的光統稱為“電離放射線等”。)的照射下主鏈被切斷而在顯影液中的溶解性增大的聚合物。

此外，在例如專利文獻1中，作為高靈敏度的主鏈切斷型的正型抗蝕劑，公開了由含有α-甲基苯乙烯單元和α-氯丙烯酸甲酯單元的α-甲基苯乙烯·α-氯丙烯酸甲酯共聚物形成的正型抗蝕劑。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特公平8-3636號公報。

發明內容

發明要解決的課題

為了將使用主鏈切斷型的正型抗蝕劑得到的圖案進一步微細化而提高分辨率，要求能夠對在電離放射線等的照射下主鏈切斷而溶解于顯影液中的部分和不溶解而殘留的部分盡量鮮明地進行區分的抗蝕劑。在此，從提高對抗蝕劑照射電離放射線等而形成圖案時的效率的觀點出發，對抗蝕劑要求以更低的照射量使主鏈被切斷而對于顯影液的溶解性增大(提高靈敏度)。

但是，專利文獻1中記載的由α-甲基苯乙烯·α-氯丙烯酸甲酯共聚物形成的正型抗蝕劑的靈敏度并不充分。因此，在專利文獻1中記載的由α-甲基苯乙烯·α-氯丙烯酸甲酯共聚物形成的正型抗蝕劑在進一步提高靈敏度的方面有改善的余地。

因此，本發明的目的在于提供可良好地用作靈敏度高的正型抗蝕劑的聚合物。

此外，本發明的目的在于提供可良好地形成靈敏度優異的抗蝕劑膜的正型抗蝕劑組合物。

用于解決課題的方案

本發明人為了實現上述目的進行了深入研究。然后，本發明人發現分子量超過80000的成分的比例為規定的值以下的α-甲基苯乙烯·α-氯丙烯酸甲酯共聚物可良好地用作靈敏度高的正型抗蝕劑，從而完成了本發明。

即，本發明是以有利地解決上述課題作為目的的，本發明的聚合物的特征在于，其含有α-甲基苯乙烯單元和α-氯丙烯酸甲酯單元，分子量超過80000的成分的比例為6.0％以下。分子量超過80000的成分的比例為6.0％以下的α-甲基苯乙烯·α-氯丙烯酸甲酯共聚物用作正型抗蝕劑時的靈敏度高，能夠良好地用作正型抗蝕劑。

另外，在本發明中，“分子量超過80000的成分的比例”能夠通過使用采用凝膠滲透色譜法得到的色譜，算出色譜中的分子量超過80000的成分的峰的面積的合計(D)相對于色譜中的峰的總面積(A)的比例(＝(D/A)×100％)從而求出。

在此，本發明的聚合物優選分子量分布(Mw/Mn)為1.25以上。這是因為，如果分子量分布(Mw/Mn)為1.25以上，則能夠進一步提高用作正型抗蝕劑時的靈敏度。

在此，在本發明中，“分子量分布(Mw/Mn)”是指重均分子量(Mw)相對于數均分子量(Mn)的比。而且，在本發明中，“數均分子量(Mn)”和“重均分子量(Mw)”能夠使用凝膠滲透色譜法進行測定。

此外，本發明是以有利地解決上述課題作為目的的，本發明的正型抗蝕劑組合物的特征在于，其包含上述的聚合物中的任一種和溶劑。如果含有上述的聚合物作為正型抗蝕劑，則能夠良好地形成高靈敏度的抗蝕劑膜。

發明效果

根據本發明的聚合物，能夠提供靈敏度高的正型抗蝕劑。

此外，根據本發明的正型抗蝕劑組合物，能夠良好地形成靈敏度優異的抗蝕劑膜。

具體實施方式

以下，對本發明的實施方式進行詳細說明。

在此，本發明的聚合物能夠良好地用作在電子束等電離放射線、紫外線等短波長的光的照射下主鏈被切斷而低分子量化的主鏈切斷型的正型抗蝕劑。而且，本發明的正型抗蝕劑組合物是包含本發明的聚合物作為正型抗蝕劑的正型抗蝕劑組合物。

(聚合物)