[發(fā)明專利]連續(xù)的板坯鑄造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680008280.8 | 申請日: | 2016-06-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107206476B | 公開(公告)日: | 2019-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 權(quán)祥欽;韓尚佑;元泳穆 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社POSCO |
| 主分類號(hào): | B22D11/124 | 分類號(hào): | B22D11/124;B22D11/22;B22D11/055 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡勝有;鄭毅 |
| 地址: | 韓國慶*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 連續(xù) 鑄造 方法 | ||
1.一種用于板坯的連鑄方法,其中,板坯被連鑄,所述連鑄方法包括:
在鋼水被注入到從結(jié)晶器的內(nèi)部的中央部分向所述板坯的厚度方向偏移的區(qū)域的同時(shí),通過所述結(jié)晶器對所述板坯進(jìn)行初次冷卻;以及
在拉拔由所述結(jié)晶器初次冷卻的所述板坯時(shí)通過將冷卻水噴灑至所述板坯的表面,對所述板坯進(jìn)行二次冷卻,
其中,在所述初次冷卻中,浸入式水口被置入到所述結(jié)晶器中,所述結(jié)晶器包括面向彼此的一對長側(cè)和面向彼此的一對短側(cè),所述鋼水被注入到所述結(jié)晶器中,所述浸入式水口沿從所述一對長側(cè)中選擇的一個(gè)長側(cè)的方向偏移,
其中,在所述初次冷卻中,所述浸入式水口偏移的方向是所述一對長側(cè)中的布置在相對于所述板坯被拉拔的方向的前側(cè)上的長側(cè)的方向;并且
其中,在所述二次冷卻中,所述板坯被從所述結(jié)晶器向下拉拔,并且所述板坯在向前彎曲的同時(shí)被拉拔,
其中,噴灑至所述板坯的上側(cè)的冷卻水的量保持為大于噴灑至所述板坯的下側(cè)的冷卻水的量,直到被拉拔的板坯完全凝固的點(diǎn)為止,并且
其中,在所述被拉拔的板坯完全凝固以后,噴灑至所述板坯的所述下側(cè)的冷卻水的量保持為等于或大于噴灑至所述板坯的上部部分的冷卻水的量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連鑄方法,其中,在所述初次冷卻中,所述浸入式水口與從所述一對長側(cè)中選擇的一個(gè)長側(cè)之間的距離d1和所述浸入式水口與所述一對長側(cè)中的另一長側(cè)之間的距離d2之間的差是20mm或更長。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連鑄方法,其中,在所述初次冷卻中,所述浸入式水口與從所述一對長側(cè)中選擇的一個(gè)長側(cè)之間的距離d1和所述浸入式水口與所述一對長側(cè)中的另一長側(cè)之間的距離d2分別是10mm或更長。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連鑄方法,其中,在所述初次冷卻中,所述浸入式水口與從所述一對長側(cè)中選擇的一個(gè)長側(cè)之間的距離d1和所述浸入式水口與所述一對長側(cè)中的另一長側(cè)之間的距離d2的長度比(d1∶d2)是1∶3。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社POSCO,未經(jīng)株式會(huì)社POSCO許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680008280.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測試終端的測試方法
- 一種服裝用人體測量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





