[發明專利]非晶態烴基膜、以及具有所述膜的滑動構件和滑動系統

有效

• 申請號: 201680008136.4
• 申請日: 2016-01-29
• 公開（公告）號: CN107208263B
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發明（設計）人: 加藤孝久;野坂正隆;遠山護;村瀨篤;中井恭子;鈴木雅裕
• 申請（專利權）人: 株式會社捷太格特;國立大學法人東京大學
• 主分類號: C23C16/26
• 分類號: C23C16/26;C10M103/02;F16C19/00;F16C33/12;F16C33/24;F16C33/64
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 王海川;穆德駿

1.一種滑動構件，其包含：

包含第一覆膜的滑動面，

其中所述滑動構件由金屬和陶瓷中的至少一者形成，并且

其中所述第一覆膜包含一種非晶態烴基膜，所述非晶態烴基膜包含：

在紅外吸收光譜中的2900cm^-1至3000cm^-1的區域中顯示峰的脂族烴基；和

在通過飛行時間二次離子質譜法獲得的正離子譜圖中的91.1的質量處顯示峰的芳族成分和在通過飛行時間二次離子質譜法獲得的正離子譜圖中的115.2的質量處顯示峰的稠環類成分中的至少一者。

2.根據權利要求1所述的滑動構件，其中，所述非晶態烴基膜還包含：

在紅外吸收光譜中的1650cm^-1至1800cm^-1的區域中顯示峰的羰基。

3.根據權利要求1所述的滑動構件，其中，所述非晶態烴基膜包含所述芳族成分和所述稠環類成分兩者。

4.根據權利要求2所述的滑動構件，其中，所述非晶態烴基膜包含所述芳族成分和所述稠環類成分兩者。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的滑動構件，其中，

所述非晶態烴基膜的平均厚度為2nm至1000nm。

6.根據權利要求1至4中任一項所述的滑動構件，其中，

所述滑動構件由ZrO₂形成。

7.根據權利要求5所述的滑動構件，其中，

所述滑動構件由ZrO₂形成。

8.一種滑動系統，其包含：

根據權利要求1至7中任一項所述的滑動構件；和

被滑動構件，所述被滑動構件包含與所述滑動面接觸而滑動并且包含由非晶態碳基膜制成的第二覆膜的被滑動面，

其中所述第二覆膜的楊氏模量為200GPa至250GPa。

9.根據權利要求8所述的滑動系統，其中，

所述第二覆膜在其最外表面中包含羥基，所述羥基在紅外吸收光譜中的3000cm^-1至4000cm^-1的區域中顯示峰。