[發(fā)明專利]蝕刻液、補(bǔ)給液及銅布線的形成方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680000623.6
• 申請(qǐng)日: 2016-05-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107208279B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小寺浩史;片山育代;菱川翔太
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: MEC股份有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/18
• 分類號(hào): C23F1/18;H05K3/06
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 張福根;馮志云

1.一種蝕刻液，是銅的蝕刻液，其特征在于，

所述蝕刻液是水溶液，包含酸、氧化性金屬離子、溴化物離子、以及

選自由脂肪族無(wú)環(huán)化合物、脂肪族雜環(huán)化合物及芳香族雜環(huán)化合物所組成的群組中的1種以上的化合物；

所述脂肪族無(wú)環(huán)化合物是碳數(shù)2至10的飽和脂肪族無(wú)環(huán)化合物(A)，僅具有2個(gè)以上的氮作為雜原子；

所述脂肪族雜環(huán)化合物是包含五至七元環(huán)的脂肪族雜環(huán)化合物(B)，所述五至七元環(huán)具有1個(gè)以上的氮作為構(gòu)成環(huán)的雜原子；

所述芳香族雜環(huán)化合物是包含六元芳香雜環(huán)的芳香族雜環(huán)化合物(C)，所述六元芳香雜環(huán)具有1個(gè)以上的氮作為構(gòu)成環(huán)的雜原子；

所述酸的濃度是5g/L至180g/L，所述氧化性金屬離子的濃度是10g/L至300g/L，選自由所述脂肪族無(wú)環(huán)化合物、所述脂肪族雜環(huán)化合物及所述芳香族雜環(huán)化合物所組成的群組中的1種以上的化合物的濃度是0.01g/L至100g/L的范圍；

所述溴化物離子的濃度是10g/L至150g/L。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，所述酸是鹽酸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻液，其特征在于，所述氧化性金屬離子是二價(jià)銅離子。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻液，其特征在于，所述脂肪族無(wú)環(huán)化合物(A)的1個(gè)以上的端基是NH₂基團(tuán)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻液，其特征在于，所述脂肪族雜環(huán)化合物(B)是脂肪族雜環(huán)化合物(b1)，所述脂肪族雜環(huán)化合物(b1)包含僅具有1個(gè)以上的氮作為構(gòu)成環(huán)的雜原子的五至七元環(huán)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蝕刻液，其特征在于，所述芳香族雜環(huán)化合物(C)是芳香族雜環(huán)化合物(c1)，所述芳香族雜環(huán)化合物(c1)還包含具有1個(gè)以上的氮作為構(gòu)成環(huán)的雜原子的五元芳香雜環(huán)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蝕刻液，其特征在于，所述芳香族雜環(huán)化合物(c1)是所述六元芳香雜環(huán)與所述五元芳香雜環(huán)經(jīng)縮合而形成為稠環(huán)的芳香族雜環(huán)化合物(c1-1)、和/或所述六元芳香雜環(huán)與所述五元芳香雜環(huán)由單鍵或二價(jià)連接基團(tuán)連接而成的芳香族雜環(huán)化合物(c1-2)。

8.一種補(bǔ)給液，在根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一權(quán)利要求所述的蝕刻液連續(xù)或反復(fù)使用時(shí)，添加至所述蝕刻液中，其特征在于，

所述補(bǔ)給液是水溶液，包含選自由脂肪族無(wú)環(huán)化合物、脂肪族雜環(huán)化合物及芳香族雜環(huán)化合物所組成的群組中的1種以上的化合物；

所述脂肪族無(wú)環(huán)化合物是碳數(shù)2至10的飽和脂肪族無(wú)環(huán)化合物(A)，僅具有2個(gè)以上的氮作為雜原子；

所述脂肪族雜環(huán)化合物是包含五至七元環(huán)的脂肪族雜環(huán)化合物(B)，所述五至七元環(huán)具有1個(gè)以上的氮作為構(gòu)成環(huán)的雜原子；

所述芳香族雜環(huán)化合物是包含六元芳香雜環(huán)的芳香族雜環(huán)化合物(C)，所述六元芳香雜環(huán)具有1個(gè)以上的氮作為構(gòu)成環(huán)的雜原子。

9.一種銅布線的形成方法，是將銅層未被抗蝕劑包覆的部分進(jìn)行蝕刻，其特征在于，

使用根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的蝕刻液進(jìn)行蝕刻。