[實用新型]PPE基板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201621105671.5
• 申請日: 2016-10-09
• 公開（公告）號: CN206620354U
• 公開（公告）日: 2017-11-07
• 發(fā)明（設計）人: 王志建;宋紅林;楊志剛;張金強
• 申請（專利權）人: 武漢光谷創(chuàng)元電子有限公司
• 主分類號: H05K1/03
• 分類號: H05K1/03
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 劉林華,張昱

1.一種PPE基板，包括：

PPE基材；

離子注入層，其位于所述PPE基材的表面下方；以及

等離子體沉積層，其位于所述離子注入層的上方。

2.根據(jù)權利要求1所述的PPE基板，其特征在于，所述PPE基材包括純PPE基材、改性的PPE基材、或者環(huán)氧玻纖布基PPE基材，其中所述改性的PPE基材包括質(zhì)量分數(shù)為60%以上的PPE，所述環(huán)氧玻纖布基PPE基材中的玻纖布包括D型玻纖布或NE型玻纖布。

3.根據(jù)權利要求1所述的PPE基板，其特征在于，所述PPE基材具有約3.0的介電常數(shù)和約0.0005的損耗因子。

4.根據(jù)權利要求1所述的PPE基板，其特征在于，所述PPE基材設置有通孔和/或盲孔，所述離子注入層還位于所述通孔和/或盲孔的孔壁下方。

5.根據(jù)權利要求4所述的PPE基板，其特征在于，所述離子注入層包括由注入的導電材料與所述PPE基材組成的摻雜結構，其上表面與所述PPE基材的表面和/或所述孔壁相齊平，而下表面位于所述PPE基材的表面和/或所述孔壁的下方1-100nm的深度處。

6.根據(jù)權利要求1至4中的任何一項所述的PPE基板，其特征在于，所述離子注入層和/或所述等離子體沉積層包括一層或多層，并且由Ti、Cr、Ni、Cu、Ag、Au、V、Zr、Mo、Nb、Al、Be、Co、Fe、Mg、Mn、Pt、Ta、W以及它們之間的合金中的一種組成。

7.根據(jù)權利要求1至4中的任何一項所述的PPE基板，其特征在于，所述等離子體沉積層包括與所述離子注入層相連的金屬沉積層和位于所述金屬沉積層上方的銅沉積層，所述金屬沉積層包括厚度為0-50nm的Ni、Cr或Ti層，所述銅沉積層的厚度為0-50nm。

8.根據(jù)權利要求1至4中的任何一項所述的PPE基板，其特征在于，所述等離子體沉積層包括與所述離子注入層相連的金屬氧化物沉積層、位于所述金屬氧化物沉積層上方的金屬沉積層、以及位于所述金屬沉積層上方的銅沉積層，所述金屬氧化物沉積層包括厚度為10-500nm的NiO層，所述金屬沉積層包括厚度為10-500nm的Ni層或Ni-Cu合金層，所述銅沉積層的厚度為10-500nm。

9.根據(jù)權利要求1至4中的任何一項所述的PPE基板，其特征在于，所述PPE基板還包括位于所述等離子體沉積層上方的導體加厚層，該導體加厚層具有0.1-100μm的厚度，并且由Al、Mn、Fe、Ti、Cr、Co、Ni、Cu、Ag、Au、V、Zr、Mo、Nb以及它們之間的合金中的一種組成。

10.根據(jù)權利要求1至4中的任何一項所述的PPE基板，其特征在于，所述離子注入層和等離子體沉積層組成導體層，所述導體層與所述PPE基材之間的接合面具有0.1μm以下的表面粗糙度，并且所述導體層與所述PPE基材之間的結合力為0.6N/mm以上。