[實用新型]半導體元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201620778058.3 | 申請日: | 2016-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN206210794U | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發(fā)明(設計)人: | B·帕德瑪納伯翰;P·文卡特拉曼;A·薩利赫;劉春利 | 申請(專利權)人: | 半導體元件工業(yè)有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L27/088 | 分類號: | H01L27/088;H01L27/082;H01L23/482 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038 | 代理人: | 秦晨 |
| 地址: | 美國亞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 元件 | ||
相關申請的交叉引用
本申請是由Balaji Padmanabhan等人在2015年7月24日提交的、題目為“SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD OF MANUFACTURE”的臨時專利申請序列號62/196,655的非臨時申請,該臨時專利申請全文并入本文以作參考,并且在此要求其共同主題的優(yōu)先權。
技術領域
本實用新型一般地涉及電子學,并且更特別地涉及其半導體結構以及形成半導體器件的方法。
背景技術
過去,半導體工業(yè)使用各種不同的器件結構和方法來形成半導體器件,例如,二極管、肖特基二極管、場效應晶體管(FET)、高電子遷移率晶體管(HEMT)等。諸如二極管、肖特基二極管和FET之類的器件典型地由硅基板制成。由硅基板制成的半導體器件的缺點包括低擊穿電壓、過大的反向漏電流、大的正向電壓降、不適宜地低的開關特性、高的功率密度以及高制造成本。要克服這些缺點,半導體制造商已經轉向用化合物半導體基板來制造半導體器件,例如,III-N半導體基板、III-V半導體基板、II-VI半導體基板等。盡管這些基板具有改進的器件性能,但是它們易碎且增加了制造成本。因而,半導體工業(yè)已經開始使用作為硅和III-N材料的組合的化合物半導體基板,以解決成本、可制造性和脆弱性的問題。形成于硅基板或其他半導體基板上的III-N化合物半導體材料已經在Zhi He的且于2011年6月9日公布的美國專利申請公開號2011/0133251A1以及Michael A.Briere的且于2013年3月21日公布的美國專利申請公開號2013/0069208A1中進行了描述。
半導體制造商使用硅半導體材料和III-N半導體材料的組合來制造器件,例如,與硅器件級聯(lián)的常開的III-N耗盡型HEMT。使用這種材料組合有助于使用常開的III-N耗盡型器件來實現常關狀態(tài)。在被配置為開關的級聯(lián)器件中,硅器件通常由于在高漏極偏壓下操作的III-N器件的高的漏電流而在雪崩模式下操作。在雪崩操作模式中,III-N器件的柵極處于較大的壓力下,因為硅器件的雪崩擊穿電壓會超過III-N器件的柵極電介質的擊穿電壓。猛烈的壓力條件,例如,在雪崩模式下操作硅器件,會降低器件的可靠性,降低擊穿電壓,增加漏電流,并且會降低硅器件的可靠性。級聯(lián)半導體器件已經在Rakesh K.Lal等人的且于2013年4月11日公布的美國專利申請公開號2013/0088280A1中進行了描述。
因此,具有可降低硅器件進入雪崩擊穿的可能性的級聯(lián)半導體器件及其制造方法將會是有利的。若該結構及方法實現起來具有成本效益將會是更有利的。
實用新型內容
本實用新型的第一方面提供一種半導體元件(10,30),具有至少第一端子及第二端子,其特征在于包括:第一半導體器件(12,32),具有第一載流端子及第二載流端子,所述第一半導體器件(12,32)由硅基材料配置;第二半導體器件(14),具有控制端子(14G)和第一載流端子(14D)及第二載流端子(14S),所述第二半導體器件(14)由III-N半導體材料配置,所述第一半導體器件(12)的所述第一載流端子與所述第二半導體器件(14)的第二載流端子(14S)耦接,并且所述第二半導體器件(14)的所述控制端子(14G)與所述第一半導體器件(12)的所述第二載流端子耦接;以及第三半導體器件(16,36),具有控制端子(16G,36G)和第一載流端子(16D,36D)及第二載流端子(16S,36S),所述第三半導體器件(16,36)的所述第一載流端子(16D,36D)與所述第三半導體器件(16,36)的所述控制端子(16G,36G)、所述第一半導體器件(12,32)的所述第一載流端子以及所述第二半導體器件(14)的所述第二載流端子(14S)耦接。
根據上面描述的半導體元件的一個單獨實施例,其特征在于所述第一半導體器件(12,32)是第一晶體管,所述第二半導體器件(14)是第二晶體管,所述第三半導體器件(16)是第三晶體管,并且所述硅基半導體材料是第一導電類型的硅。
根據上面描述的半導體元件的一個單獨實施例,其特征在于所述第一晶體管(12,32)、所述第二晶體管(14)和所述第三晶體管(16)是單片集成的。
根據上面描述的半導體元件的一個單獨實施例,其特征在于所述第二半導體器件(14)的所述控制端子(14G)與所述第三半導體器件(16)的所述第二載流端子(16S)耦接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于半導體元件工業(yè)有限責任公司,未經半導體元件工業(yè)有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201620778058.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:顯示裝置及其電容結構
- 下一篇:立體顯示裝置檢測設備
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





