[實(shí)用新型]用于外延沉積的具有液體分配器的反應(yīng)室和反應(yīng)器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201620768775.8
• 申請日: 2016-07-19
• 公開（公告）號: CN206157270U
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 弗朗西斯科·科里亞;溫琴佐·奧格里亞里
• 申請（專利權(quán)）人: LPE公司
• 主分類號: C30B25/08
• 分類號: C30B25/08;C30B19/06
• 代理公司: 北京酷愛智慧知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11514
• 代理人: 劉謙

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種具有液體分配器的反應(yīng)室和一種包括該反應(yīng)室的用于外延沉積的反應(yīng)器。

背景技術(shù)

用于外延沉積反應(yīng)器的反應(yīng)室，其上部和下部一般由流體即液體和/或氣體冷卻。

在某些情況下，其上部由一種液體冷卻，下部由一種液體和氣體冷卻。

通常該液體在該反應(yīng)室的至少一個外表面上流動；因此，它促進(jìn)了該表面上的散熱。

發(fā)明內(nèi)容

該表面上常含有一個反射層(例如含金)，在高溫下(例如300℃)時，該層會從反應(yīng)室上分離。

因此，實(shí)踐中的要求之一是要確保至少整個表面具有均衡和良好的冷卻。本發(fā)明的目的是改進(jìn)已知的解決方案。

本發(fā)明的目的是通過具有權(quán)利要求描述的技術(shù)特征的反應(yīng)室實(shí)現(xiàn)。

本發(fā)明的根本思想是制造冷卻液的湍流。

本發(fā)明的另一個目的是提供一種包括所述反應(yīng)室、具有權(quán)利要求描述的技術(shù)特征的外延沉積反應(yīng)器。

附圖說明

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做詳細(xì)說明。

圖1是本發(fā)明的反應(yīng)室的簡化俯視圖，圖中未顯示冷卻流體的分配系統(tǒng)以突出反應(yīng)室中的其余細(xì)節(jié)；

圖2是圖1中反應(yīng)室的簡化俯視圖，所述反應(yīng)室包括本發(fā)明的上部冷卻液分配系統(tǒng)(圖中已示出)和本發(fā)明的下部冷卻液分配系統(tǒng)(圖中未示出)；

圖3是本發(fā)明的下部冷卻液分配系統(tǒng)的簡化俯視圖；

圖4是反應(yīng)室的簡化側(cè)視圖，包括本發(fā)明所述的上部冷卻液分配系統(tǒng)和本發(fā)明的下部冷卻液分配系統(tǒng)。

容易理解的是，本發(fā)明在實(shí)踐中可以有多種方式實(shí)現(xiàn)所附的權(quán)利要求描述的主要有利方面。

具體實(shí)施方式

所有的附圖均指本發(fā)明的同一實(shí)施例。

如前所述，本發(fā)明的根本思想是制造冷卻液的湍流，即至少在宏觀水平上的湍流，該無序流動的湍流能夠流過(并冷卻)的所述表面區(qū)域的每個點(diǎn)。

所述的液體流必須是均勻分布在所述表面區(qū)域中的的湍流，沒有死區(qū)(即液體停滯區(qū)域)。所述冷卻液的湍流可以在反應(yīng)室上部和/或下部。

因此，可有上部冷卻液分配系統(tǒng)和/或下部冷卻液分配系統(tǒng)。

本說明書及附圖所描述的實(shí)施例包括這兩種系統(tǒng)。

涉及上部冷卻液分配系統(tǒng)，本發(fā)明特別適用于外表面包括可被液體冷卻的第一上部區(qū)域和可被氣體冷卻的第二上部區(qū)域的反應(yīng)室。

在這種情況下，第一區(qū)域和第二區(qū)域通過至少一個從所述外表面向外突出的第一屏障分開；所述上部分配系統(tǒng)包括：冷卻液分配管，所述分配管上有開孔，所述開孔的形狀至少和第一屏障的形狀部分相似，且位于所述第一屏障和所述外表面上相對應(yīng)的第一區(qū)域的附近；所述上部分配系統(tǒng)設(shè)置成可以制造均勻分布在所述第一區(qū)域的冷卻流體的湍流。

本發(fā)明的上部冷卻液分配系統(tǒng)，特別適用于外表面包括適于被液體冷卻的第一上部區(qū)域、適于被氣體冷卻的第二上部區(qū)域和適于被氣體冷卻的第三上部區(qū)域的反應(yīng)室；第二區(qū)域和第三區(qū)域位于第一區(qū)域相對的兩側(cè)。

該情況如圖1、圖2及圖4所示，反應(yīng)室1是反應(yīng)器10的一部分，外表面2的第一區(qū)域標(biāo)為Z1，外表面2的第二區(qū)域標(biāo)為Z2，外表面2的第三區(qū)域標(biāo)為Z3。

在這種情況下，第一區(qū)域Z1和第二區(qū)域Z2被從外表面2向外突出的第一屏障3分開；第一區(qū)域Z1和第三區(qū)域Z3被從外表面向外突出的第二屏障4分開；上部分配系統(tǒng)100包括一個冷卻劑分配管110，所述分配管上有開孔120，所述開孔包括第一部分，其形狀至少和第一屏障3的形狀部分相似，且位于所述第一屏障3和外表面2上相對應(yīng)的第一區(qū)域Z1的附近，以及第二部分，其形狀至少和第二屏障4的形狀部分相似，且位于所述第二屏障4和外表面2上相對應(yīng)的第一區(qū)域Z1的附近；上部分配系統(tǒng)100設(shè)置成可以制造均勻分布在所述第一區(qū)域Z1的冷卻流體的湍流。

圖1是反應(yīng)室1的簡化俯視圖；分配系統(tǒng)100未畫出以突出表面2的上部區(qū)域。在圖1中，可見入口凸緣5，及通過其進(jìn)入的反應(yīng)氣體輸入流IF，和凸緣6及通過其離開的廢氣輸出流OF。

圖2是反應(yīng)室1的簡化俯視圖，包括分配系統(tǒng)100。

如圖所示，第一屏障3和第二屏障4部分彎曲。

如圖所示，管110包括多個機(jī)械地連接、彼此相互連通的部分。

如圖所示，管110包括多個朝向表面2的孔121(在圖2中孔121被示出，雖然它們位于反面，即在配管110下方)和多個方向平行于表面2的孔122。

孔122可以和定向噴嘴如導(dǎo)向管連接(參見圖2)。