[實用新型]用于涂覆可移動基板的沉積源和沉積設備

有效

• 申請號: 201620739121.2
• 申請日: 2016-07-14
• 公開（公告）號: CN206188878U
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發明（設計）人: F·里斯;T·高爾
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/56;C23C16/455;C23C16/54
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 黃嵩泉

技術領域

本文所描述的實施例涉及用于涂覆基板的沉積源以及具有至少一個用于涂覆基板的沉積源的沉積設備。實施例尤其涉及用于在待抽空的源外殼中涂覆可移動基板、尤其是柔性基板的沉積源以及用于涂覆可移動基板的沉積設備，所述沉積設備具有用于固持基板的工藝腔室和用于涂覆處理的源外殼。具體來說，實施例涉及用于涂覆可移動基板的沉積源以及用于涂覆可移動基板的沉積設備。

背景技術

諸如柔性基板之類的基板在移動經過處理裝備時被整齊地處理。處理可以包含為了所需應用而在基板上進行的、利用所需材料(例如，金屬，尤其是鋁、半導體或電介質材料)對柔性基板的涂覆。具體來說，涂覆金屬、半導體或塑料膜或箔在包裝行業、半導體行業和其他行業中具有高需求。執行這一任務的系統大體包括耦合至用于移動基板的處理系統的處理滾筒(例如，圓柱形輥子)，基板的至少部分在所述處理滾筒上經處理。允許基板在處理滾筒的引導表面上移動時被涂覆的所謂卷對卷(roll-to-roll)涂覆系統可以提供高產量。

通常，可以利用蒸發工藝(諸如，熱蒸發工藝)以便將涂覆材料的薄層沉積到柔性基板上。因此，在顯示器行業和光伏(photovoltaic；PV)行業中，卷對卷沉積系統也正在經歷需求的強勁增長。例如，觸摸板元件、柔性顯示器和柔性PV模塊導致對于以低制造成本在卷對卷涂覆機中沉積適宜層的日益增長的需求。此類器件通常用若干涂覆材料層制成，這可在連續地利用若干沉積源的卷對卷涂覆設備中生產。每一個沉積源可調適成當正在將基板移向下一沉積源時，以特定涂覆材料來涂覆此基板。通常，使用PVD(物理氣相沉積)和/或CVD(化學氣相沉積)工藝并且尤其是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)處理進行涂覆。

多年來，顯示器器件中的層已經演化為每個層都致力于不同的功能的多個層。可以經由多個沉積源將多個層沉積到多個基板上。傳送多個基板通過多個真空腔室可能減少產量。因此，本領域中需要用于以各種層涂覆可移動基板的高效設備，其中可以確保高基板產量同時維持改善的涂覆效率和準確性。

實用新型內容

鑒于上文，根據獨立權利要求，提供用于涂覆可移動基板的沉積源和包括至少一個沉積源的用于涂覆可移動基板的沉積設備。進一步的方面、優點和特征通過從屬權利要求、說明書和所附附圖是顯而易見的。

根據本文所描述的實施例，提供用于涂覆可移動基板的沉積源。沉積源包括：源外殼，以可以在沉積期間移動基板經過所述源外殼的敞開的前側的方式附接到工藝腔室(例如，真空工藝腔室)；氣體入口，用于將工藝氣體引入到源外殼的涂覆處理區域中；抽空出口，用于將工藝氣體從源外殼的泵送區域去除；以及抽空分割單元，布置在涂覆處理區域與泵送區域之間，所述抽空分割單元具有界定從涂覆處理區域到泵送區域中的工藝氣流路徑的至少一個開口。

在實施例中，抽空分割單元包括界定從涂覆處理區域到泵送區域中的工藝氣流路徑的多個開口。在一些實施中，絲線或細線組合件布置在涂覆處理區域中，使得沉積源配置成用于HWCVD(熱絲化學氣相沉積)涂覆處理。

根據進一步的方面，提供用于涂覆可移動基板的沉積設備。沉積設備包括源外殼和工藝腔室。工藝腔室連接到源外殼并且設有基板支撐件，所述基板支撐件包括基板引導表面，所述基板引導表面用于移動基板經過源外殼的敞開的前側。源外殼包括：氣體入口，用于將工藝氣體引入到源外殼的涂覆處理區域中；抽空出口，用于將工藝氣體從源外殼的泵送區域去除；以及抽空分割單元，布置在涂覆處理區域與泵送區域之間，所述抽空分割單元具有界定從涂覆處理區域到泵送區域中的工藝氣流路徑的至少一個開口。在實施例中，抽空分割單元包括界定從涂覆處理區域到泵送區域中的工藝氣流路徑的至少一組多個開口。

實施例也涉及用于進行所公開的方法的設備并且包括用于執行單獨的方法操作的設備部件。這一方法可以經由硬件組件、通過適當軟件編程的計算機，通過這兩者的任何組合或以任何其他方式執行。此外，實施例也涉及操作所描述設備的方法。

可以與本文所描述的實施例組合的其他優點、特征、方面和細節通過從屬權利要求、說明書和附圖是明顯的。

附圖說明

為了可詳細地理解本實用新型的上述特征的方式，上文簡要概述的本實用新型的更具體的描述可以參考實施例進行。所附圖式涉及本實用新型的實施例并且在下文中描述：

圖1A顯示根據本文所描述的實施例的用于在可移動基板上沉積薄膜的沉積源的示意性截面圖；

圖1B以沿C-C的截面圖顯示圖1A的沉積源，此截面圖用于說明在源外殼內的工藝氣流路徑；