[實用新型]用于涂覆可移動基板的沉積源和沉積設備

有效

• 申請號: 201620739121.2
• 申請日: 2016-07-14
• 公開（公告）號: CN206188878U
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發明（設計）人: F·里斯;T·高爾
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/56;C23C16/455;C23C16/54
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 黃嵩泉

1.一種用于涂覆可移動基板的沉積源(100)，包含：

源外殼(120)，所述源外殼以可以在沉積期間移動基板(20)經過所述源外殼的敞開的前側(122)的方式而附接到工藝腔室；

氣體入口(130)，所述氣體入口用于將工藝氣體引入到所述源外殼(120)的涂覆處理區域(125)中；

抽空出口(140)，所述抽空出口用于將所述工藝氣體從所述源外殼(120)的泵送區域(126)去除；以及

抽空分割單元(150)，所述抽空分割單元布置在所述涂覆處理區域(125)與所述泵送區域(126)之間，所述抽空分割單元具有至少一個開口(152)，所述至少一個開口界定從所述涂覆處理區域(125)到所述泵送區域(126)中的工藝氣流路徑(155)。

2.根據權利要求1所述的沉積源，其特征在于，所述抽空分割單元(150)具有界定所述工藝氣流路徑的至少一組多個開口(152)。

3.根據權利要求2所述的沉積源，其特征在于，所述至少一組多個開口(152)以線性布置并排地布置。

4.根據權利要求3所述的沉積源，其特征在于，所述泵送區域(126)內的所述工藝氣流路徑的主方向(Y)垂直于所述線性布置的延伸方向。

5.根據權利要求2到4中的任一權利要求所述的沉積源，其特征在于，所述抽空分割單元(150)在所述涂覆處理區域(125)的第一橫向側上具有第一組多個開口，并且在第二橫向側上具有第二組多個開口，所述第二橫向側在基板移動方向(S)上與所述第一橫向側相反。

6.根據權利要求5所述的沉積源，其特征在于，在截面中，所述第一組多個開口與所述抽空出口之間的第一距離對應于所述第二組多個開口與所述抽空出口之間的距離。

7.根據權利要求1到4中的任一權利要求所述的沉積源，其特征在于，所述涂覆處理區域(125)內的所述工藝氣流路徑的第一主方向(X)是與所述泵送區域內的所述工藝氣流路徑的第二主方向(Y)相反的方向。

8.根據權利要求7所述的沉積源，其特征在于，所述涂覆處理區域(125)內的所述工藝氣流路徑的第一主方向(X)是垂直于所述開口(152)內的所述工藝氣流路徑的第三主方向(Z)的方向。

9.根據權利要求1到4中的任一權利要求所述的沉積源，其特征在于，所述氣體入口(130)和/或所述抽空出口(140)布置在與所述敞開的前側(122)相對的所述源外殼(120)的后側。

10.根據權利要求1到4中的任一權利要求所述的沉積源，其特征在于，所述抽空分割單元(150)包括至少一個氣體遮蔽板(158、159)。

11.根據權利要求10所述的沉積源，其特征在于，第一氣體遮蔽板(158)經布置以沿所述涂覆處理區域的第一側線性地延伸，并且第二氣體遮蔽板(159)經布置以沿所述涂覆處理區域的第二側線性地延伸。

12.根據權利要求11所述的沉積源，其特征在于，每一個氣體遮蔽板在所述涂覆處理區域與所述泵送區域之間提供至少一個開口。

13.根據權利要求11所述的沉積源，其特征在于，每一個氣體遮蔽板在所述涂覆處理區域與所述泵送區域之間提供多個開口(152)。

14.根據權利要求10所述的沉積源，其特征在于，所述至少一個氣體遮蔽板(158、159)具有抵靠所述源外殼的接觸表面(129)的凹口的前邊緣(157)，其中所述工藝氣流路徑(155)形成在所述凹口的前邊緣(157)與所述接觸表面(129)之間。

15.根據權利要求1到4中的任一權利要求所述的沉積源，其特征在于，所述氣體入口(130)被提供為布置在與所述敞開的前側(122)相對的涂覆處理區域(125)中的噴淋頭組合件(132)。

16.根據權利要求15所述的沉積源，其特征在于，所述噴淋頭組合件的至少部分將所述涂覆處理區域與所述泵送區域分離。

17.根據權利要求15所述的沉積源，其特征在于，所述噴淋頭組合件的至少部分在所述噴淋頭組合件與所述源外殼的后外壁之間延伸。