[實用新型]激光直寫雙面曝光裝置

有效

• 申請號: 201620549865.8
• 申請日: 2016-06-08
• 公開（公告）號: CN206270652U
• 公開（公告）日: 2017-06-20
• 發明（設計）人: 茆曉華
• 申請（專利權）人: 江蘇影速光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 徐州市三聯專利事務所32220
• 代理人: 周愛芳

技術領域

本實用新型涉及一種曝光裝置，具體涉及一種激光直寫雙面曝光裝置。

背景技術

直寫式曝光技術是近年來發展較快的、以替代傳統的掩膜板式曝光技術的影像直接轉移技術，在半導體及PCB生產領域中有著越來越重要的地位。利用該技術可以縮短工藝流程，并降低生產成本。目前市場上主流的直寫式曝光機大多以單工件臺方式進行掃描曝光，先將被曝光工件的A面曝光完成后，再進行翻版，然后對B面進行曝光。在單工件臺系統中，用于曝光的基板的上板、對準、曝光、下板是依次進行的。依據目前的結構系統，各操作流程均已經達到耗時的上限，很難再縮短某個操作步驟的操作時間，即單工件臺的直寫式曝光機由于各操作流程的串行性質，已很難再提高產能。

發明內容

針對上述現有技術存在的問題，本實用新型提供一種激光直寫雙面曝光裝置，曝光簡便、高效，大大降低成本，提高曝光質量。

為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：一種激光直寫雙面曝光裝置，包括曝光平臺、激光器、光轉折器件和二次曲面反射鏡，激光器、光轉折器件和二次曲面反射鏡設置在曝光平臺的兩個側面，光轉折器件位于激光器和二次曲面反射鏡的中間位置。

所述曝光平臺兩側設置的激光器、光轉折器件和二次曲面反射鏡位置對稱。

所述激光器的中線與光轉折器件的中線重合，激光器的中線與曝光平臺中線重合。

所述的二次曲面反射鏡高度不小于曝光平臺的高度。

本實用新型的有益效果為：激光器發出的光束通過光轉折器件打在二次曲面反射鏡聚焦最終打在曝光平臺的PCB板表面上，光轉折器件可以使激光光斑在曝光平臺上上下移動，由于曝光平臺的前后移動和光斑的上下移動，激光光束完成二維平面的掃描，曝光簡便、高效，大大降低成本，提高曝光質量。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型的主視圖；

圖3為本實用新型的俯視圖；

圖中：1、曝光平臺，2、激光器，3、光轉折器件，4、二次曲面反射鏡。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型作進一步說明。

如圖1至圖3所示，本激光直寫雙面曝光裝置，包括曝光平臺1、激光器2、光轉折器件3和二次曲面反射鏡4，曝光平臺1能前后發生移動，曝光光路由激光器2、光轉折器件3和二次曲面反射鏡4組成，激光器2、光轉折器件3和二次曲面反射鏡4設置在曝光平臺1的兩個側面，光轉折器件3位于激光器2和二次曲面反射鏡4的中間位置。

PCB板固定在曝光平臺1上，曝光平臺1不會遮擋PCB板正反兩面需要曝光的表面，曝光光路同時對曝光平臺1上的PCB板的正反兩個表面進行曝光，激光器2發出的光束通過光轉折器件3打在二次曲面反射鏡4聚焦最終打在曝光平臺1上的PCB板表面上，光轉折器件3可以使激光光斑在曝光平臺1上上下移動，配合曝光平臺1的前后移動和光斑的上下移動，激光光束完成二維平面的掃描，PCB板曝光簡便、高效，大大降低成本，提高曝光質量。

為了進一步提高曝光質量和效率，曝光平臺1兩側設置的激光器2、光轉折器件3和二次曲面反射鏡4位置對稱；激光器2的中線與光轉折器件3的中線重合，激光器2的中線與曝光平臺1中線重合；二次曲面反射鏡4高度不小于曝光平臺1的高度。