[實用新型]激光直寫雙面曝光裝置有效
| 申請號： | 201620549865.8 | 申請日： | 2016-06-08 |
| 公開（公告）號： | CN206270652U | 公開（公告）日： | 2017-06-20 |
| 發明（設計）人： | 茆曉華 | 申請（專利權）人： | 江蘇影速光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 徐州市三聯專利事務所32220 | 代理人： | 周愛芳 |
| 地址： | 221000 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 激光 雙面 曝光 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種激光直寫雙面曝光裝置，其特征在于，包括曝光平臺（1）、激光器（2）、光轉折器件（3）和二次曲面反射鏡（4），激光器（2）、光轉折器件（3）和二次曲面反射鏡（4）設置在曝光平臺（1）的兩個側面，光轉折器件（3）位于激光器（2）和二次曲面反射鏡（4）的中間位置。
2.根據權利要求1所述的一種激光直寫雙面曝光裝置，其特征在于，所述曝光平臺（1）兩側設置的激光器（2）、光轉折器件（3）和二次曲面反射鏡（4）位置對稱。
3.根據權利要求2所述的一種激光直寫雙面曝光裝置，其特征在于，所述激光器（2）的中線與光轉折器件（3）的中線重合，激光器（2）的中線與曝光平臺（1）中線重合。
4.根據權利要求1所述的一種激光直寫雙面曝光裝置，其特征在于，所述的二次曲面反射鏡（4）高度不小于曝光平臺（1）的高度。
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