[實用新型]直寫式曝光機中用于激光一分N的系統有效
| 申請號： | 201620549857.3 | 申請日： | 2016-06-08 |
| 公開（公告）號： | CN206270650U | 公開（公告）日： | 2017-06-20 |
| 發明（設計）人： | 楊文 | 申請（專利權）人： | 江蘇影速光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 徐州市三聯專利事務所32220 | 代理人： | 周愛芳 |
| 地址： | 221600 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 直寫式 曝光 用于 激光 一分 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種直寫式曝光機中用于激光一分N的系統，其特征在于，包括：
單個激光器以及n個分光單元；
其中，分光單元包括處于同一平行線的分光鏡和呈45°角的反射鏡；
所述單個激光器發出光束照射到分光單元的分光鏡上，一束光經過反射鏡反射、另一束穿過分光鏡照射到下一個分光單元，進而實現一束光源一分N束。
2.根據權利要求1所述的一種直寫式曝光機中用于激光一分N的系統，其特征在于，所述的單個激光器與初始分光單元之間設有可旋轉玻片，通過旋轉玻片實現光束的均勻性。
3.根據權利要求2所述的一種直寫式曝光機中用于激光一分N的系統，其特征在于，所述的每兩個分光單元的分光鏡之間均設有玻片。
4.根據權利要求3所述的一種直寫式曝光機中用于激光一分N的系統，其特征在于，所述的激光器為高功率可調激光器。
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