[實用新型]直寫式曝光機中用于激光一分N的系統

有效

• 申請號: 201620549857.3
• 申請日: 2016-06-08
• 公開（公告）號: CN206270650U
• 公開（公告）日: 2017-06-20
• 發明（設計）人: 楊文
• 申請（專利權）人: 江蘇影速光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 徐州市三聯專利事務所32220
• 代理人: 周愛芳

技術領域

本實用新型涉及一種直寫式曝光機中用于激光一分N的系統，屬于直寫式光刻機曝光技術領域。

背景技術

直寫式光刻技術是近年來發展較快的、以替代傳統的掩膜板式光刻技術的影像直接轉移技術，在半導體及PCB生產領域中有著越來越重要的地位；利用該技術可以縮短工藝流程，并降低生產成本。

目前，曝光機內部常規采用多組光路來實現大板曝光，如果每組光路均采用一個激光器，那么在曝光控制中難以精準的控制各組光路的能量一致性，且曝光機中使用激光器越多，成本越高。

發明內容

針對上述現有技術存在的問題，本實用新型提供一種直寫式曝光機中用于激光一分N的系統，通過一束光源實現多組均勻出射光，進而降低生產成本、保證生產質量。

為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：一種直寫式曝光機中用于激光一分N的系統，包括：

單個激光器以及n個分光單元；

其中，分光單元包括處于同一平行線的分光鏡和呈45°角的反射鏡；

所述單個激光器發出光束照射到分光單元的分光鏡上，一束光經過反射鏡反射、另一束穿過分光鏡照射到下一個分光單元，進而實現一束光源一分N束。

所述的單個激光器與初始分光單元之間設有可旋轉玻片，通過旋轉玻片實現光束的均勻性。

所述的每兩個分光單元的分光鏡之間均設有玻片。

所述的激光器為高功率可調激光器。

與現有的多個激光器方式相比，本實用新型大大降低了生產成本，使用單個激光器發出光束經過N個分光單元實現N個光束進行曝光，即單個光源實現多組均勻出射光，并且使用一個高功率激光器，通過光學系統對其進行精準分光，通過電子控制激光器的脈沖頻率可以精準改變激光器的出射能量，滿足不同需求的曝光能量；通過微調玻片可以保證各組光路的出射能量高度一致。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例結構原理示意圖；

圖2為本實用新型的分光單元示意圖。

圖中：1、激光器，2、玻片一，3、分光鏡一，4、玻片二，5、分光鏡二，6、反射鏡一，7、玻片三，8、分光鏡三，9反射鏡二，10、玻片N，11、分光鏡N，12、反射鏡N。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型作進一步說明。

如圖1和圖2：本實用新型為一種直寫式曝光機中用于激光一分N的系統，包括：

單個激光器1以及n個分光單元；

其中，分光單元包括處于同一平行線的分光鏡和呈45°角的反射鏡；

所述單個激光1發出光束照射到分光單元的分光鏡上，一束光經過反射鏡反射、另一束穿過分光鏡照射到下一個分光單元，進而實現一束光源一分N束。

如圖1所示：所述的單個激光器1與初始分光單元之間設有可旋轉玻片一2，通過旋轉玻片一2實現光束的均勻性。

如圖1，所述的每兩個分光單元的分光鏡之間均設有玻片，通過微調玻片可以保證各組光路的出射能量高度一致。

為了滿足使用要求：所述的激光器1為高功率可調激光器，電子控制激光器1的脈沖頻率可以精準改變激光器1的出射能量，滿足不同需求的曝光能量。

如圖1所示，為本實用新型的一個實施例：

激光器1發出光束通過玻片一2照射到分光鏡一3，一束光被反射到玻片三7至分光鏡三8后被一分二，一束經過反射至反光鏡9另一束則繼續穿過分光鏡三8照射到下一個分光單元；穿過分光鏡一3的光束通過玻片二4照射到下一個分光鏡二5和反射鏡二6上，每束光路依次類推，最終形成一分N束光束；

其中，圖2為分光單元包括分光鏡N11、反射鏡N12，玻片N10用于對光束微調，保證各組光路的出射能量高度一致。

綜上所述：本實用新型大大降低了生產成本，使用單個激光器1發出光束經過N個分光單元實現N個光束進行曝光，即單個光源實現多組均勻出射光，并且使用一個高功率激光器，通過光學系統對其進行精準分光，通過電子控制激光器1的脈沖頻率可以精準改變激光器的1出射能量，滿足不同需求的曝光能量；通過微調玻片可以保證各組光路的出射能量高度一致。

對于本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節，而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其它的具體形式實現本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。

以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡是依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何細微修改、等同替換和改進，均應包含在本實用新型技術方案的保護范圍之內。