[實用新型]雙面曝光機的自動調焦系統有效
| 申請號： | 201620549850.1 | 申請日： | 2016-06-08 |
| 公開（公告）號： | CN206270649U | 公開（公告）日： | 2017-06-20 |
| 發明（設計）人： | 楊文 | 申請（專利權）人： | 江蘇影速光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H05K3/00 |
| 代理公司： | 徐州市三聯專利事務所32220 | 代理人： | 周愛芳 |
| 地址： | 221600 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 雙面 曝光 自動 調焦 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種雙面曝光機的自動調焦系統，其特征在于，從左到右依次為左DMD、左成像鏡筒、左物鏡鏡筒、右物鏡鏡筒、右成像鏡筒和右DMD，PCB板豎直放置于右物鏡鏡筒和左物鏡鏡筒之間，所述的右物鏡鏡筒安裝在微型電動旋轉平臺上，所述的右DMD安裝在微型Z軸電動位移平臺。
2.根據權利要求1所述的一種雙面曝光機的自動調焦系統，其特征在于所述的PCB板通過位移平臺帶動，實現X-Y二維方向上的掃描曝光。
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