[實(shí)用新型]一種蒸發(fā)源系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201620536416.X
• 申請(qǐng)日: 2016-06-02
• 公開（公告）號(hào): CN207405228U
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡海兵
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/28
• 分類號(hào): C23C14/28
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

本實(shí)用新型涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸發(fā)源系統(tǒng)，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的由于坩堝溫度不均勻而導(dǎo)致蒸鍍到基板上的膜層厚度不均勻的問題。該蒸發(fā)源系統(tǒng)基于現(xiàn)有的蒸發(fā)源設(shè)備，增加激光加熱裝置，該激光加熱裝置針對(duì)溫度低于預(yù)設(shè)閾值的噴嘴進(jìn)行加熱處理，使得該噴嘴的溫度提升至不易凝固的溫度，即至少達(dá)到預(yù)設(shè)閾值。這樣，即使蒸發(fā)源本體對(duì)各個(gè)坩堝的加熱均勻性不好，也可以通過激光加熱裝置改善這一不均勻性對(duì)各個(gè)噴嘴的影響，使得各個(gè)噴嘴的溫度接近一致，避免由于溫度不足而容易使有機(jī)材料粘連在噴嘴內(nèi)徑而導(dǎo)致噴嘴堵塞的問題，進(jìn)而，保證蒸鍍到基板上的膜層厚度的均勻性。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸發(fā)源系統(tǒng)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的顯示面板的制備過程中，需要利用蒸鍍工藝沉積相應(yīng)膜層，例如，有機(jī)電致發(fā)光(Organic Light-Emitting Diode，OLED)顯示面板中的有機(jī)發(fā)光膜層等的制備。其中，蒸鍍工藝必不可少的設(shè)備為蒸發(fā)源設(shè)備，如圖1所示，為現(xiàn)有的蒸發(fā)源設(shè)備中任一坩堝的截面示意圖，主要包括：蒸發(fā)源本體11，嵌設(shè)在蒸發(fā)源本體11內(nèi)的坩堝12，(其實(shí)，每個(gè)蒸發(fā)源設(shè)備可以包含多個(gè)坩堝，本實(shí)施例僅以一個(gè)坩堝為例進(jìn)行說明)坩堝12可設(shè)置為矩形腔室，每個(gè)腔室的上方設(shè)置有多個(gè)用于噴射出經(jīng)加熱而蒸發(fā)的待成膜材料的噴嘴13。在實(shí)際的蒸鍍時(shí)，該蒸發(fā)源設(shè)備的蒸發(fā)源本體11對(duì)坩堝12加熱，坩堝12中的有機(jī)材料分子在受熱后經(jīng)過噴嘴13被蒸鍍到基板上。

然而，由于上述蒸發(fā)源設(shè)備中坩堝加熱的溫度均勻性不好，若坩堝溫度不足則容易使有機(jī)材料粘連在噴嘴內(nèi)徑從而導(dǎo)致噴嘴堵塞，尤其針對(duì)所屬同一坩堝的噴嘴而言，若發(fā)生堵塞則容易致使坩堝內(nèi)部壓強(qiáng)變化，有可能影響其他噴嘴的蒸鍍情況，最終，導(dǎo)致蒸鍍到基板上的膜層厚度不均勻。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種蒸發(fā)源系統(tǒng)，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的由于坩堝溫度不均勻而導(dǎo)致蒸鍍到基板上的膜層厚度不均勻的問題。

本實(shí)用新型實(shí)施例采用以下技術(shù)方案：

一種蒸發(fā)源系統(tǒng)，包括：蒸發(fā)源本體，嵌設(shè)在所述蒸發(fā)源本體上的至少一個(gè)坩堝，所述坩堝上方設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)用于噴射出經(jīng)加熱而蒸發(fā)的待成膜材料的噴嘴，還包括：至少一個(gè)激光加熱裝置；

其中，所述激光加熱裝置用于在任意一個(gè)或多個(gè)噴嘴的溫度低于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)噴嘴進(jìn)行加熱處理，以使得所述一個(gè)或多個(gè)噴嘴的溫度至少達(dá)到預(yù)設(shè)閾值，所述預(yù)設(shè)閾值為所述待成膜材料的熔融溫度值。

可選地，所述蒸發(fā)源系統(tǒng)還包括：與每個(gè)噴嘴對(duì)應(yīng)設(shè)置的溫度傳感器；

其中，所述溫度傳感器用于對(duì)相應(yīng)的噴嘴的溫度進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控，并在溫度低于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，向所述激光加熱裝置發(fā)送加熱信號(hào)；

所述激光加熱裝置具體用于在接收到所述加熱信號(hào)時(shí)，對(duì)發(fā)送該加熱信號(hào)的溫度傳感器對(duì)應(yīng)的噴嘴進(jìn)行加熱處理，以使得所述噴嘴達(dá)到不易堵塞的溫度。

該技術(shù)方案可實(shí)時(shí)對(duì)噴嘴進(jìn)行監(jiān)控，以通知激光加熱裝置對(duì)相應(yīng)噴嘴進(jìn)行加熱處理。

可選地，所述溫度傳感器還用于在所述激光加熱裝置對(duì)相應(yīng)噴嘴進(jìn)行加熱一段時(shí)間后且該噴嘴的溫度達(dá)到預(yù)設(shè)閾值時(shí)，向所述激光加熱裝置發(fā)送停止加熱信號(hào)；

所述激光加熱裝置還用于在接收到所述停止加熱信號(hào)時(shí)，停止對(duì)發(fā)送該停止加熱信號(hào)的溫度傳感器對(duì)應(yīng)的噴嘴進(jìn)行加熱處理。

該技術(shù)方案可根據(jù)溫度傳感器發(fā)送的停止加熱信號(hào)，停止對(duì)噴嘴的加熱處理，從而，能夠準(zhǔn)確實(shí)現(xiàn)對(duì)噴嘴的加熱處理，提升加熱精準(zhǔn)度。

可選地，所述激光加熱裝置還用于在對(duì)相應(yīng)噴嘴加熱預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)之后，停止對(duì)所述噴嘴進(jìn)行加熱處理。

該技術(shù)方案根據(jù)經(jīng)驗(yàn)值設(shè)定預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)，使得加熱處理后的噴嘴的溫度更為接近蒸鍍所需的溫度。