[實用新型]一種蒸發源系統

有效

• 申請號: 201620536416.X
• 申請日: 2016-06-02
• 公開（公告）號: CN207405228U
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發明（設計）人: 胡海兵
• 申請（專利權）人: 鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種蒸發源系統，包括：蒸發源本體，嵌設在所述蒸發源本體上的至少一個坩堝，所述坩堝上方設置有一個或多個用于噴射出經加熱而蒸發的待成膜材料的噴嘴，其特征在于，還包括：至少一個激光加熱裝置；

其中，所述激光加熱裝置用于在任意一個或多個噴嘴的溫度低于預設閾值時，對所述一個或多個噴嘴進行加熱處理，以使得所述一個或多個噴嘴的溫度至少達到預設閾值，所述預設閾值為所述待成膜材料的熔融溫度值。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括：與每個噴嘴對應設置的溫度傳感器；

其中，所述溫度傳感器用于對相應的噴嘴的溫度進行實時監控，并在溫度低于預設閾值時，向所述激光加熱裝置發送加熱信號；

所述激光加熱裝置具體用于在接收到所述加熱信號時，對發送該加熱信號的溫度傳感器對應的噴嘴進行加熱處理，以使得所述噴嘴達到不易堵塞的溫度。

3.如權利要求2所述的系統，其特征在于，所述溫度傳感器還用于在所述激光加熱裝置對相應噴嘴進行加熱一段時間后且該噴嘴的溫度達到預設閾值時，向所述激光加熱裝置發送停止加熱信號；

所述激光加熱裝置還用于在接收到所述停止加熱信號時，停止對發送該停止加熱信號的溫度傳感器對應的噴嘴進行加熱處理。

4.如權利要求2所述的系統，其特征在于，所述激光加熱裝置還用于在對相應噴嘴加熱預設時長之后，停止對所述噴嘴進行加熱處理。

5.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述激光加熱裝置還用于，依次對各個噴嘴進行掃描，根據獲取的頻率信號確定溫度低于預設閾值的噴嘴。

6.如權利要求1-5任一項所述的系統，其特征在于，所述激光加熱裝置包括一個激光器。

7.如權利要求6所述的系統，其特征在于，所述激光器的方向固定，所述設備還包括：移動軸和支架，所述激光加熱裝置設置在所述移動軸上，所述移動軸架設在所述支架上；

所述激光加熱裝置在接收到所述加熱信號之后，且對發送該加熱信號的溫度傳感器對應的噴嘴進行加熱處理之前，還用于通過調整自身在所述移動軸延伸方向的位置以及調整所述移動軸在所述支架延伸方向的位置，使得所述激光加熱裝置開啟激光器后發射的激光光束照射到所述噴嘴上。

8.如權利要求6所述的系統，其特征在于，所述激光器的方向可調，所述設備還包括：支架，所述激光加熱裝置固定在所述支架的中間位置；

所述激光加熱裝置在接收到所述加熱信號之后，且對發送該加熱信號的溫度傳感器對應的噴嘴進行加熱處理之前，還用于通過調整所述激光加熱裝置中激光器的角度，使得所述激光加熱裝置開啟激光器后發射的激光光束照射到所述噴嘴上。

9.如權利要求7或8所述的系統，其特征在于，所述支架固定在所述蒸發源本體上，或者，所述支架固定在所述蒸發源設備所在的真空腔室的內壁。

10.如權利要求1-5任一項所述的系統，其特征在于，所述激光加熱裝置包括與各個噴嘴具有一一對應關系的多個激光器，每個激光器開啟后發射的激光光束能夠照射到相對應的噴嘴上。