[實用新型]一種均勻加熱的烹飪鍋及其烹飪裝置

有效

• 申請號: 201620348420.3
• 申請日: 2016-04-22
• 公開（公告）號: CN208769449U
• 公開（公告）日: 2019-04-23
• 發明（設計）人: 朱澤春;王翔;王昌明
• 申請（專利權）人: 九陽股份有限公司
• 主分類號: A47J27/00
• 分類號: A47J27/00;A47J36/00;A47J36/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種均勻加熱的烹飪鍋，所述烹飪鍋內外表面之間形成封閉的傳導腔，所述傳導腔內有超導介質，其特征在于，所述傳導腔的腔壁至少部分為降噪腔壁；所述降噪腔壁表面為粗糙面。

2.如權利要求1所述的均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述降噪腔壁為彈性降噪腔壁。

3.如權利要求2所述的均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述彈性降噪腔壁的彈性模量小于2Gpa或者所述彈性降噪腔壁為特氟龍降噪腔壁。

4.如權利要求2或3所述的均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述彈性降噪腔壁表面為粗糙面，所述粗糙面的粗糙度Ra為0.5-20μm之間。

5.如權利要求1所述的均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述粗糙面的粗糙度Ra為0.5-20μm之間。

6.如權利要求5所述的均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述粗糙面包括多數個粗糙顆粒，所述粗糙顆粒的直徑在0.2-2mm之間。

7.如權利要求1-3、5-6之一所述的均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述傳導腔的腔壁包括第一側壁、第二側壁、底壁和頂壁，所述第一側壁、第二側壁或/和底壁部分為降噪腔壁，或者所述第一側壁和第二側壁整個為降噪腔壁，或者所述第一側壁、第二側壁和底壁整個為降噪腔壁，或者所述第一側壁、第二側壁、底壁和頂壁整個為降噪腔壁。

8.如權利要求1-3、5-6之一所述的均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述降噪腔壁位于所述傳導腔腔壁的下部、中部或/和上部；或者所述降噪腔壁的厚度為2μm-100μm；或者所述降噪腔壁的表面積范圍為5㎝²-1500㎝²。

9.一種烹飪裝置，包括加熱裝置和如權利要求1-8之一所述的均勻加熱的烹飪鍋，所述加熱裝置對所述烹飪鍋進行加熱。