[實用新型]用于電子束熱蒸發系統的防濺射外罩

有效

• 申請號: 201620228111.2
• 申請日: 2016-03-23
• 公開（公告）號: CN205387591U
• 公開（公告）日: 2016-07-20
• 發明（設計）人: 喬唐
• 申請（專利權）人: 蘇州新材料研究所有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30
• 代理公司: 蘇州睿昊知識產權代理事務所(普通合伙) 32277
• 代理人: 伍見

技術領域

本實用新型涉及電子束熱蒸發設備領域，具體涉及用于電子束熱蒸發系 統的防濺射外罩。

背景技術

目前，在通過電子束加熱坩堝底部來蒸發物質的電子束熱蒸發系統中， 由于坩堝底部過熱，融化的蒸鍍材料液滴落到底部后運動趨于緩慢，容易過 熱出現液滴濺射的情況，為了防止液滴濺射，若降低溫度，蒸發效率則會受 很大影響。例如，電子束加熱鎢坩堝底部蒸發銀，在用于卷對卷帶材鍍銀系 統時，液滴濺射會對所鍍的膜造成嚴重的破壞，另外液滴飛濺冷卻為固態落 在帶材背面，則會隨帶材運動至導輪下對帶材造成周期性的尖刺狀壓痕破壞。 因此，在不影響蒸發效率的情況下，怎樣防止濺射是電子束熱蒸發系統函待 解決的問題。

發明內容

本實用新型的目的在于克服現有技術存在的以上問題，提供一種用于電 子束熱蒸發系統的防濺射外罩，本實用新型的外罩套設在坩堝頂部，蒸鍍材 料在外罩上融化，沿著外罩往下滑落，在滑落的過程中發生濺射的概率很低。 其原因有兩個，一是由于外罩及坩堝側壁溫度低于被電子束直接加熱的坩堝 底部；二是由于滑落過程中液滴一直處于運動而非靜止狀態，從熱傳遞的角 度講難以過熱，最終液滴落到坩堝底部，運動逐漸緩慢，溫度逐步上升直至 過熱發生濺射，因此發生濺射的最大概率位置為坩堝底部，在外罩的阻擋下， 濺射的液滴無法飛出，從而起到阻斷液滴濺射的作用

為實現上述技術目的，達到上述技術效果，本實用新型通過以下技術方 案實現：

用于電子束熱蒸發系統的防濺射外罩，其包括：

外罩支撐體，所述外罩支撐體與坩堝接觸且受所述坩堝的頂端邊緣支撐， 所述外罩支撐體為圓環形結構；

導流環，所述導流環設置在所述外罩支撐體的內圓上，所述導流環頂部 端面為斜面，在所述斜面上設有若干導流氣孔，所述坩堝內部的蒸汽通過所 述導流氣孔；

導流腔，所述導流腔為漏斗形結構，所述導流腔的上部邊緣連接至所述 導流環的下部邊緣，融化狀態的蒸鍍材料流入所述導流腔；

導流通道，所述導流通道為圓柱體，所述導流通道的上端連接至所述導 流腔的底部，所述導流通道深入至所述坩堝中，所述導流通道頂部端面設有 第一圓孔，所述第一圓孔與所述導流腔貫通，所述導流通道的側壁上設有五 個斜方向圓孔，融化的蒸鍍材料液滴由所述第一圓孔滴入，順著所述斜方向 圓孔滴入至所述坩堝中，最終滴落至所述坩堝底部。

在本實用新型的一個較佳實施例中，進一步包括，所述導流通道的底部 端面為平面。

在本實用新型的一個較佳實施例中，進一步包括，所述導流通道底部端 面阻擋來自所述坩堝底部飛濺的液滴。

在本實用新型的一個較佳實施例中，進一步包括，所述導流腔的外部漏 斗面阻擋來自所述坩堝底部飛濺的液滴。

在本實用新型的一個較佳實施例中，進一步包括，所述導流氣孔等間距 的設置在所述導流環上。

在本實用新型的一個較佳實施例中，進一步包括，所述外罩支撐體、導 流環、導流腔一體成型。

本實用新型的有益效果是:

其一、本實用新型的防濺射外罩，其罩在坩堝的頂端的開口處，蒸鍍材 料在防濺射外罩上融化，沿著外罩向坩堝滴落，由于外罩和坩堝側壁的溫度 低于由電子束直接加熱的坩堝底部，并且在滴落過程中，液滴一直運動，難 以過熱，最終液滴滴落到坩堝底部，在溫度最高的坩堝底部，即使液滴發生 濺射，在上述防濺射外罩的阻擋下，濺射的液滴無法飛出去，從而起到阻斷 液滴濺射的作用。

其二、本實用新型的防濺射外罩，結構簡單，設計合理，能夠有效的防 止液滴濺射，避免濺射的顆粒對鍍膜造成損壞，提高了鍍膜品質。

上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用 新型的技術手段，并可依照說明書的內容予以實施，以下以本實用新型的較 佳實施例并配合附圖詳細說明如后。本實用新型的具體實施方式由以下實施 例及其附圖詳細給出。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例技術中的技術方案，下面將對實施 例技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的 附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不 付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是本實用新型仰視的結構示意圖；