[實用新型]X射線成像系統

有效

• 申請號: 201620099373.3
• 申請日: 2016-02-01
• 公開（公告）號: CN205352972U
• 公開（公告）日: 2016-06-29
• 發明（設計）人: 劉利鋒
• 申請（專利權）人: 劉利鋒
• 主分類號: G01N23/20
• 分類號: G01N23/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種成像系統，特別是涉及一種基于ICF裝置的球面型曲面晶體X射線成像系統。

背景技術

在ICF實驗研究中，晶體譜儀被用于激光等離子體X射線光譜診斷，根據獲得的等離子體X射線光譜信息，可以得到等離子體中電子溫度、密度、電離分布、電流和電磁場的時空分布，以及輸運、波動和不穩定性等狀態參數，真實地了解高溫等離子體的內部狀態及變化過程。現有的晶體譜儀設備中各部件均是固定安裝，無法自由的調節部件位置，對實驗設備的安裝、維修和實驗過程均有較大的影響。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種X射線成像系統，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供一種X射線成像系統，包括：

密封盒體，所述密封盒體由頂部開口的鉛盒和用于密封所述鉛盒的鉛玻璃蓋板組成；

阻光板，所述阻光板設置在所述鉛盒內，所述鉛盒沿長度方向被所述阻光板分隔成光源室和成像室，所述阻光板上設置有透光區，所述阻光板朝向光源室的一側還設置有用于阻擋所述透光區的遮光板，所述遮光板可沿所述鉛盒寬度方向來回移動，所述遮光板上設置有至少一個狹縫；

X射線源，所述X射線源設置在所述光源室內并可沿所述鉛盒寬度方向來回移動，用于將X射線依次穿過所述狹縫和所述透光區后傳輸到成像室；

曲面晶體，所述曲面晶體設置在所述成像室內并可沿所述鉛盒的長度方向和寬度方向來回移動，用于接收X射線源傳輸的X射線并聚焦到鉛盒內的羅蘭圓軌跡上；

成像接收裝置，所述成像接收裝置設置在所述成像室內并可沿所述鉛盒的長度方向來回移動，用于接收曲面晶體衍射后的X射線。

上述技術方案中，所述成像室內設置有沿鉛盒寬度方向布置的試樣軌道，所述試樣軌道設置在所述曲面晶體與所述阻光板之間，所述試樣軌道上設置有第一滑塊，所述第一滑塊上設置有試樣座，所述試樣軌道一側設置有用于驅動第一滑塊沿所述試樣軌道滑動的第一電機。

上述技術方案中，所述阻光板上靠近光源室的一側設置有沿鉛盒寬度方向布置的遮光軌道，所述遮光軌道上設置有第二滑塊，所述第二滑塊與所述遮光板固定連接，所述遮光軌道一側設置有用于驅動第二滑塊沿所述遮光軌道滑動的第二電機。

上述技術方案中，所述光源室內設置有沿鉛盒寬度方向布置的光源軌道，所述光源軌道上設置有第三滑塊，所述第三滑塊上設置有所述X射線源，所述光源軌道一側設置有用于驅動第三滑塊沿所述光源軌道滑動的第三電機。

上述技術方案中，所述成像室內設置有沿鉛盒長度方向布置的縱向聚焦軌道，所述縱向聚焦軌道上設置有第四滑塊，所述第四滑塊上固定連接有沿鉛盒寬度方向布置的橫向聚焦軌道，所述橫向聚焦軌道上設置有第五滑塊，所述第五滑塊上設置有曲面晶體，所述縱向聚焦軌道一側設置有用于驅動第四滑塊沿所述縱向聚焦軌道滑動的第四電機，所述橫向聚焦軌道一側設置有用于驅動第五滑塊沿所述橫向聚焦軌道滑動的第五電機。

上述技術方案中，所述成像室內設置有沿鉛盒長度方向布置的成像軌道，所述成像軌道上設置有第六滑塊，所述第六滑塊上設置有所述成像接收裝置，所述成像軌道一側設置有用于驅動第六滑塊沿所述成像軌道滑動的第六電機。

上述技術方案中，所述成像室內分別設置有第一刻度尺和第二刻度尺，所述第一刻度尺沿所述鉛盒的長度方向布置，所述第二刻度尺沿所述鉛盒的寬度方向布置。

上述技術方案中，所述曲面晶體為球面型曲面晶體。

上述技術方案中，所述成像接收裝置為X射線膠片、成像板或CCD傳感器。

本實用新型中的X射線成像系統，通過設置多條軌道，將X射線光源，狹縫、曲面晶體和成像接收裝置分別設置在軌道上的滑塊上，從而自由的調節他們的相對位置，得到最佳的成像角度，克服了傳統的X射線成像系統中部件固定后成像效果不佳時難以調整的情況，同時通過設置在成像室內的兩個刻度尺，能夠方便使用者直觀的控制各裝置部件之間的位置，方便使用者計算出最佳布置方位并進行調整。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

具體實施方式的附圖標號說明：

1、鉛盒；101、光源室；102、成像室；2、真空抽氣管；

3、阻光板；301、透光區；302、遮光板；303、狹縫；

31、遮光軌道；32、第二滑塊；33、第二電機；

4、X射線源；41、光源軌道；42、第三滑塊；

43、第三電機；5、曲面晶體；51、縱向聚焦軌道；