[實用新型]X射線成像系統

有效

• 申請號: 201620099373.3
• 申請日: 2016-02-01
• 公開（公告）號: CN205352972U
• 公開（公告）日: 2016-06-29
• 發明（設計）人: 劉利鋒
• 申請（專利權）人: 劉利鋒
• 主分類號: G01N23/20
• 分類號: G01N23/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種X射線成像系統，其特征在于，包括：

密封盒體，所述密封盒體由頂部開口的鉛盒(1)和用于密封所述鉛盒(1)的鉛玻璃蓋板組成；

阻光板(3)，所述阻光板(3)設置在所述鉛盒(1)內，所述鉛盒(1)沿長度方向被所述阻光板(3)分隔成光源室(101)和成像室(102)，所述阻光板(3)上設置有透光區(301)，所述阻光板(3)朝向光源室(101)的一側還設置有用于阻擋所述透光區(301)的遮光板(302)，所述遮光板(302)可沿所述鉛盒(1)寬度方向來回移動，所述遮光板(302)上設置有至少一個狹縫(303)；

X射線源(4)，所述X射線源(4)設置在所述光源室(101)內并可沿所述鉛盒(1)寬度方向來回移動，用于將X射線依次穿過所述狹縫(303)和所述透光區(301)后傳輸到成像室(102)；

曲面晶體(5)，所述曲面晶體(5)設置在所述成像室(102)內并可沿所述鉛盒(1)的長度方向和寬度方向來回移動，用于接收X射線源(4)傳輸的X射線并聚焦到鉛盒(1)內的羅蘭圓軌跡上；

成像接收裝置(6)，所述成像接收裝置(6)設置在所述成像室(102)內并可沿所述鉛盒(1)的長度方向來回移動，用于接收曲面晶體(5)衍射后的X射線。

2.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其特征在于：所述成像室(102)內設置有沿鉛盒(1)寬度方向布置的試樣軌道(71)，所述試樣軌道(71)設置在所述曲面晶體(5)與所述阻光板(3)之間，所述試樣軌道(71)上設置有第一滑塊(72)，所述第一滑塊(72)上設置有試樣座(7)，所述試樣軌道(71)一側設置有用于驅動第一滑塊(72)沿所述試樣軌道(71)滑動的第一電機(73)。

3.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其特征在于：所述阻光板(3)上靠近光源室(101)的一側設置有沿鉛盒(1)寬度方向布置的遮光軌道(31)，所述遮光軌道(31)上設置有第二滑塊(32)，所述第二滑塊(32)與所述遮光板(302)固定連接，所述遮光軌道(31)一側設置有用于驅動第二滑塊(32)沿所述遮光軌道(31)滑動的第二電機(33)。

4.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其特征在于：所述光源室(101)內設置有沿鉛盒(1)寬度方向布置的光源軌道(41)，所述光源軌道(41)上設置有第三滑塊(42)，所述第三滑塊(42)上設置有所述X射線源(4)，所述光源軌道(41)一側設置有用于驅動第三滑塊(42)沿所述光源軌道(41)滑動的第三電機(43)。

5.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其特征在于：所述成像室(102)內設置有沿鉛盒(1)長度方向布置的縱向聚焦軌道(51)，所述縱向聚焦軌道(51)上設置有第四滑塊(52)，所述第四滑塊(52)上固定連接有沿鉛盒(1)寬度方向布置的橫向聚焦軌道(53)，所述橫向聚焦軌道(53)上設置有第五滑塊(54)，所述第五滑塊(54)上設置有曲面晶體(5)，所述縱向聚焦軌道(51)一側設置有用于驅動第四滑塊(52)沿所述縱向聚焦軌道(51)滑動的第四電機(55)，所述橫向聚焦軌道(53)一側設置有用于驅動第五滑塊(54)沿所述橫向聚焦軌道(53)滑動的第五電機(56)。

6.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其特征在于：所述成像室(102)內設置有沿鉛盒(1)長度方向布置的成像軌道(61)，所述成像軌道(61)上設置有第六滑塊(62)，所述第六滑塊(62)上設置有所述成像接收裝置(6)，所述成像軌道(61)一側設置有用于驅動第六滑塊(62)沿所述成像軌道(61)滑動的第六電機(63)。

7.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其特征在于：所述成像室(102)內分別設置有第一刻度尺(8)和第二刻度尺(9)，所述第一刻度尺(8)沿所述鉛盒(1)的長度方向布置，所述第二刻度尺(9)沿所述鉛盒(1)的寬度方向布置。

8.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其特征在于：所述曲面晶體(5)為球面型曲面晶體。

9.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其特征在于：所述成像接收裝置(6)為X射線膠片、成像板或CCD傳感器。