[實(shí)用新型]一種防止鍵合機(jī)臺(tái)滑片的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201620085573.3 | 申請(qǐng)日: | 2016-01-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN205319131U | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮晨 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 武漢新芯集成電路制造有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11212 | 代理人: | 陳衛(wèi) |
| 地址: | 430205 湖北*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 防止 機(jī)臺(tái) 裝置 | ||
1.一種防止鍵合機(jī)臺(tái)滑片的裝置,包括鍵合機(jī)臺(tái)上進(jìn)行鍵合的兩片硅 片(1)和鍵合臺(tái)面(2),所述硅片(1)和鍵合臺(tái)面(2)上下水平疊置, 其特征在于,還包括至少三個(gè)設(shè)置在鍵合臺(tái)面(2)周?chē)奶菪窝b置(3), 所述梯形裝置(3)呈梯形塊狀,包括短側(cè)面(4)、長(zhǎng)側(cè)面(5)和斜面(6), 所述短側(cè)面(4)和鍵合臺(tái)面(2)貼合,且短側(cè)面(4)高度和鍵合臺(tái)面(2) 厚度相同,所述長(zhǎng)側(cè)面(5)相對(duì)短側(cè)面(4)設(shè)置且其高度大于所述短側(cè)面 (4)的高度,所述斜面(6)從所述長(zhǎng)側(cè)面(5)的頂端向著硅片(1)延伸 到所述短側(cè)面(4)的頂端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防止鍵合機(jī)臺(tái)滑片的裝置,其特征在于,所 述梯形裝置(3)均勻的分布在鍵合臺(tái)面(2)周?chē)?
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防止鍵合機(jī)臺(tái)滑片的裝置,其特征在于,所 述長(zhǎng)側(cè)面(5)的高度大于所述硅片(1)的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的防止鍵合機(jī)臺(tái)滑片的裝置,其特征 在于,所述斜面(6)相對(duì)于水平的傾角α范圍為45°-80°。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的防止鍵合機(jī)臺(tái)滑片的裝置,其特征在于,所 述斜面(6)相對(duì)于水平的傾角α的值為75°。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的防止鍵合機(jī)臺(tái)滑片的裝置,其特征 在于,所述長(zhǎng)側(cè)面(5)高度超過(guò)鍵合臺(tái)面(2)厚度的值L范圍為2mm-4mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的防止鍵合機(jī)臺(tái)滑片的裝置,其特征在于,所 述長(zhǎng)側(cè)面(5)高度超過(guò)鍵合臺(tái)面(2)厚度的值L的值為3mm。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





