[實用新型]V法鑄造用薄膜加熱裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201620064283.0
• 申請日: 2016-01-22
• 公開（公告）號: CN205380253U
• 公開（公告）日: 2016-07-13
• 發(fā)明（設計）人: 王治國
• 申請（專利權）人: 文水縣易鑫鑄造有限公司
• 主分類號: B22C9/03
• 分類號: B22C9/03;B22C23/00
• 代理公司: 唐山永和專利商標事務所 13103
• 代理人: 王永紅

技術領域

本實用新型涉及鑄造領域。更具體地，本實用新型涉及V法鑄造用薄膜加熱裝置。

背景技術

V法鑄造為負壓鑄造或稱真空密封造型的一種方法，其工藝特點在于對砂型進行覆膜并對覆膜后的砂型進行抽真空從而達到使砂型成型的目的。其中，在對砂型進行覆膜處理之前必須要先對薄膜進行加熱，其目的在于使薄膜軟化從而具有如下優(yōu)點：提高薄膜的塑性，使其具有更高的延伸性；以及消除薄膜的張力，以避免薄膜經受不住高溫澆注而產生不期望的收縮。

對薄膜加熱程度的準確判斷決定了加熱后的薄膜是否具備上述優(yōu)點。加熱時間不足會影響薄膜質量，嚴重時需要重新覆膜。而若加熱時間過度，不僅有可能局部損毀薄膜還浪費了時間和能源。

薄膜在被加熱的過程中會依據(jù)其具體形態(tài)而呈現(xiàn)三種狀態(tài)：第一個狀態(tài)為加熱開始時，薄膜膨脹產生波動收縮，隨之形成許多波紋；隨著加熱的深入，第二個狀態(tài)為波紋消失而薄膜呈現(xiàn)出類鏡面的狀態(tài)繼而開始發(fā)亮；第三個狀態(tài)是薄膜被過度加熱而開始出現(xiàn)孔洞。根據(jù)經驗，在第二個狀態(tài)中薄膜開始發(fā)亮的時間點是覆膜的最佳時機，一旦錯過，薄膜會馬上出現(xiàn)孔洞繼而無法使用。然而，由于最佳覆膜的時間點持續(xù)的時間非常短，人工很難及時把握；并且，由于孔洞出現(xiàn)初期形成的是微小孔洞，人工很難輕易察覺。因此，人共判斷加熱時間的辦法不夠精確和有效。

另一種普遍采用的方法是預先設定加熱時間。然而，薄膜的重量、厚度和尺寸等參數(shù)、甚至外部環(huán)境和加熱的氣溫條件都會影響薄膜被加熱的程度，這導致單純地依靠設定的時間也無法有效和準確地判斷覆膜的最佳時機。

因此，現(xiàn)有技術中需要一種能夠較準確地識別薄膜加熱程度的薄膜加熱裝置，其能夠在精確的時間點上停止對薄膜進行加熱，以克服人工識別的主觀性和時間控制的不確定性。

實用新型內容

根據(jù)本實用新型提供了一種V法鑄造用薄膜加熱裝置，其包括：用于吸附薄膜的薄膜吸附支架；用于對所述薄膜進行加熱的加熱元件；以及加熱度探測裝置；其中，所述加熱度探測裝置包括位于所述薄膜下方且相對地設置在所述薄膜兩側的第一探測器和第二探測器。

進一步的，所述薄膜為EVA薄膜。

進一步的，所述第一探測器和所述第二探測器位于同一水平面上，且所述水平面與未被加熱的所述薄膜之間的距離為所述薄膜被加熱的剛好時下垂的距離。

進一步的，所述第一探測器是能夠發(fā)射光信號的光電傳感器。

進一步的，所述第二探測器為能夠接收所述光信號并將其反射回所述第一探測器的反射板。

進一步的，所述加熱元件為紅外線加熱管。

進一步的，所述紅外線加熱管為多個。

進一步的，所述加熱元件上方還安裝有一罩體。

進一步的，該裝置還包括控制器，所述控制器在所述第一探測器沒有接收到所述第二探測器反射回的光信號后被啟動以控制所述薄膜吸附支架進行升降運動。

進一步的，所述控制器為PLC控制器。

相較于現(xiàn)有技術，根據(jù)本實用新型可有效和精確地控制加熱時間，且結構簡單，具有廣泛的通用性；因而既提高了使用便利性，也提高了鑄造效率，進而降低生產成本。

附圖說明

圖1是根據(jù)本實用新型一個實施例的V法鑄造用薄膜加熱裝置的示意圖。

具體實施方式

如下，結合附圖及優(yōu)選實施例對根據(jù)本實用新型實施例的V法鑄造用吸膜架做更詳細地描述。

圖1示出了根據(jù)本實用新型一個實施例的抽V法鑄造用薄膜加熱裝置的示意圖。如圖1所示，該薄膜加熱裝置10包括薄膜吸附支架100、加熱元件200以及加熱度探測裝置300。

薄膜吸附支架100構造為將薄膜20在加熱環(huán)境中以利加熱元件200對其進行加熱。優(yōu)選的，加熱元件200為紅外線加熱管，該加熱管具有一定的功率，并設置1個或1個以上。加熱元件200的上方還有一罩體1。

更具體地，加熱度探測裝置300包括位于薄膜20下方且包括設置在薄膜20相對側的第一探測器301和第二探測器302。第一探測器301和第二探測器302基本位于同一水平面上。優(yōu)選地，第一探測器301為能夠發(fā)射光信號的光電傳感器，第二探測器302為能夠接收該光信號并將其反射回第一探測器301的反射板。

在加熱過程中，第一探測器301不斷向第二探測器302發(fā)射光信號，第二探測器302也會隨之將其接收到的光信號返回給第一探測器301（如虛線箭頭所示）。