[實用新型]V法鑄造用薄膜加熱裝置有效
| 申請號： | 201620064283.0 | 申請日： | 2016-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN205380253U | 公開（公告）日： | 2016-07-13 |
| 發明（設計）人： | 王治國 | 申請（專利權）人： | 文水縣易鑫鑄造有限公司 |
| 主分類號： | B22C9/03 | 分類號： | B22C9/03;B22C23/00 |
| 代理公司： | 唐山永和專利商標事務所 13103 | 代理人： | 王永紅 |
| 地址： | 032100 *** | 國省代碼： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鑄造 薄膜 加熱 裝置 | ||
1.一種V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，包括：
用于吸附薄膜的薄膜吸附支架；
用于對所述薄膜進行加熱的加熱元件；以及
加熱度探測裝置；
其中，所述加熱度探測裝置包括位于所述薄膜下方且相對地設置在所述薄膜兩側的第一探測器和第二探測器。
2.根據權利要求1所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述薄膜為EVA薄膜。
3.根據權利要求1或2所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述第一探測器和所述第二探測器位于同一水平面上，且所述水平面與未被加熱的所述薄膜之間的距離為所述薄膜被加熱的剛好時下垂的距離。
4.根據權利要求1或2所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述第一探測器是能夠發射光信號的光電傳感器。
5.根據權利要求1或2所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述第二探測器為能夠接收光信號并將其反射回所述第一探測器的反射板。
6.根據權利要求1或2所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述加熱元件為紅外線加熱管。
7.根據權利要求6所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述紅外線加熱管為多個。
8.根據權利要求1或2所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述加熱元件上方還安裝有一罩體。
9.根據權利要求1或2所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述加熱裝置進一步包括控制器，所述控制器在所述第一探測器沒有接收到所述第二探測器反射回的光信號后被啟動以控制所述薄膜吸附支架進行升降運動。
10.根據權利要求9所述的V法鑄造用薄膜加熱裝置，其特征在于，所述控制器為PLC控制器。
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