[實(shí)用新型]一種研磨基板壓力供給裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201620024157.2 | 申請日: | 2016-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN205363536U | 公開(公告)日: | 2016-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 顧楠軒;林斌;王亞平;褚威;趙業(yè)開;劉敏;劉書雨;胡忠棋;于兵 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/34 | 分類號: | B24B37/34;B24B37/10 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
| 地址: | 230011 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 研磨 壓力 供給 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及顯示面板技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種研磨基板壓力供給裝置。
背景技術(shù)
現(xiàn)有機(jī)構(gòu)提供研磨壓力主要由氣壓或直接調(diào)節(jié)研磨頭與面板Panel間的空隙Gap值。這兩種方式均不能起到精確控制研磨壓力的作用。氣體從管路中釋放出來后,壓力衰減很快,作用與Panel表面時壓力值不固定,壓力存在波動性,對研磨效果調(diào)試不利。
其中,對Panel的研磨采用氣壓作用于研磨帶的模式,氣體壓力衰減嚴(yán)重,不易精確控制。導(dǎo)致Panel各區(qū)域壓力分布不均衡,存在波動性,量化管理困難;另外一種直接調(diào)整研磨Gap的模式不能有效調(diào)整研磨頭對Panel的直接壓力大小,無法對研磨效果進(jìn)行參數(shù)型量化管理,研磨效果不易控制。
實(shí)用新型內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種研磨基板壓力供給裝置現(xiàn)有技術(shù)中的Panel研磨通過氣壓作用于研磨帶的模式,氣體壓力衰減嚴(yán)重,不易精確控制,導(dǎo)致Panel各區(qū)域壓力分布不均衡,故研磨效果存在波動性,量化管理困難。
(二)技術(shù)方案
為解決上述問題,本實(shí)用新型提供了一種研磨基板壓力供給裝置,包括:
第一通電磁鐵和第二通電磁鐵,所述第一通電磁鐵和第二通電磁鐵的同極側(cè)上下相對放置且存在空隙;
所述第二通電磁鐵與第一通電磁鐵通過導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)連接,所述第二通電磁鐵沿著第一通電磁鐵和第二通電磁鐵的共同中心線方向在一定范圍內(nèi)進(jìn)行滑動;
所述第一通電磁鐵和第二通電磁鐵之間產(chǎn)生的排斥力為面板提供研磨壓力。
優(yōu)選地,所述第一通電磁鐵和第二通電磁鐵之間產(chǎn)生的排斥力F等于第一通電磁鐵產(chǎn)生磁力F1和第二通電磁鐵產(chǎn)生磁力F2之和,即:
F=F1+F2,
其中,μ1為第一通電磁鐵的磁導(dǎo)率,S1為第一通電磁鐵鐵芯的截面積,I1為第一通電磁鐵的線圈電流,W1為第一通電磁鐵的線圈匝數(shù),δ1為第一通電磁鐵的氣隙長度;
μ2為第一通電磁鐵的磁導(dǎo)率,S2為第一通電磁鐵鐵芯的截面積,I2為第一通電磁鐵的線圈電流,W2為第一通電磁鐵的線圈匝數(shù),δ2為第一通電磁鐵的氣隙長度。
優(yōu)選地,所述導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)包括第一L形固定支架和第二L形固定支架,所述第一固定支架位于橫向的第一邊與第一通電磁鐵固定連接,其位于縱向的第二邊與第二L形固定支架的位于縱向的長邊通過滑軌連接,所述長邊與第二通電磁鐵連接,所述第二通電磁鐵通過在長邊上的滑動,實(shí)現(xiàn)與第一通電磁鐵的相對運(yùn)動。
優(yōu)選地,所述第二L形固定支架的長邊長度大于第一L形固定支架的第二邊長度。
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