[發(fā)明專利]靶材組件的處理方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611270763.3
• 申請(qǐng)日: 2016-12-30
• 公開（公告）號(hào): CN108265274A
• 公開（公告）日: 2018-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚力軍;潘杰;相原俊夫;王學(xué)澤;劉霞
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 徐文欣;吳敏

一種靶材組件的處理方法，包括：提供靶材組件，所述靶材組件包括背板和靶材，所述靶材位于所述背板上，所述靶材組件包括核心區(qū)和處理區(qū)，所述核心區(qū)與所述處理區(qū)鄰接，所述處理區(qū)包圍所述核心區(qū)，所述靶材位于所述核心區(qū)和部分所述處理區(qū)內(nèi)；對(duì)所述處理區(qū)的部分靶材和部分背板進(jìn)行噴砂處理，在所述部分靶材和部分背板的表面形成粗糙層；對(duì)所述粗糙層進(jìn)行熔射處理，在所述粗糙層上形成膜層。所述方法處理后的靶材組件應(yīng)用到磁控濺射較長時(shí)間時(shí)，即使靶材原子在所述膜層上形成堆積，所述靶材原子也不會(huì)脫落，成膜質(zhì)量好，靶材利用率高，從而顯著延長靶材的使用壽命。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及磁控濺射技術(shù)，特別涉及磁控濺射靶材組件的處理方法。

背景技術(shù)

磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。磁控濺射的原理為：在真空狀態(tài)下，當(dāng)磁控濺射靶材被施加一個(gè)負(fù)電位、被鍍膜的工件加正電位時(shí)，在磁控濺射靶材所在的真空室內(nèi)形成電場，然后向真空室內(nèi)充入工藝載氣(如Ar)，在一定壓力和溫度下，正電位與負(fù)電位之間會(huì)產(chǎn)生放電現(xiàn)象，電子沿環(huán)形軌道運(yùn)動(dòng)，撞擊工藝載氣(Ar)分子，產(chǎn)生等離子體放電。同時(shí)，磁控濺射靶材上的磁鐵產(chǎn)生磁場，磁場施加于電場之中，在電場和磁場作用下工藝載氣(Ar)產(chǎn)生的離子撞擊磁控濺射靶材表面，使得作為陰極的磁控濺射靶材的原子濺射出去，在被鍍膜的工件表面上就形成了一層薄膜。

然而，采用現(xiàn)有技術(shù)的方法在被鍍膜的工件上成膜質(zhì)量不好，當(dāng)所述成膜質(zhì)量低于一定質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，就需要更換靶材。而所述靶材未經(jīng)充分利用就被更換掉，造成靶材的浪費(fèi)，所述靶材使用壽命較短。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明解決的技術(shù)問題是提供一種靶材組件的處理方法，能夠提高被鍍膜的工件上的成膜質(zhì)量和提高靶材的利用率，延長靶材的使用壽命。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明技術(shù)方案提供一種靶材組件的處理方法，包括：提供靶材組件，所述靶材組件包括背板和靶材，所述靶材位于所述背板上，所述靶材組件包括核心區(qū)和處理區(qū)，所述核心區(qū)與所述處理區(qū)鄰接，所述處理區(qū)包圍所述核心區(qū)，所述靶材位于所述核心區(qū)和部分所述處理區(qū)內(nèi)；對(duì)所述處理區(qū)的部分靶材和部分背板進(jìn)行噴砂處理，在所述部分靶材和部分背板的表面形成粗糙層；對(duì)所述粗糙層進(jìn)行熔射處理，在所述粗糙層上形成膜層。

可選的，所述靶材包括：鈦靶材。

可選的，所述背板的材料包括：鋁合金。

可選的，所述噴砂處理步驟包括：提供噴砂槍；通過噴砂槍將砂粒沿處理區(qū)起始點(diǎn)噴射至處理區(qū)終止點(diǎn)，在所述處理區(qū)部分靶材和部分背板表面形成粗糙層；所述處理區(qū)起始點(diǎn)為所述處理區(qū)內(nèi)的靶材側(cè)壁頂部，所述處理區(qū)終止點(diǎn)為所述處理區(qū)的外側(cè)邊緣。

可選的，所述處理區(qū)內(nèi)的靶材側(cè)壁與處理區(qū)內(nèi)的背板表面構(gòu)成處理區(qū)拐角；所述處理區(qū)終止點(diǎn)距離所述處理區(qū)拐角的距離為0毫米～20毫米。

可選的，所述噴砂槍具有噴砂槍槍嘴；在所述噴砂過程中，噴砂槍槍嘴至所述處理區(qū)的距離范圍為150毫米～200毫米。

可選的，噴砂槍噴嘴所噴砂粒所作的直線運(yùn)動(dòng)方向和所述背板所在水平面的夾角范圍為40度～55度。

可選的，在所述噴砂處理過程中，噴砂槍內(nèi)的壓強(qiáng)為：0.441兆帕～0.539兆帕。

可選的，所述砂粒型號(hào)為46號(hào)白剛玉。

可選的，所述熔射處理的步驟包括：提供熔射材料；對(duì)熔射材料進(jìn)行熔化處理形成熔射液；所述熔射液在所述粗糙層表面凝固形成膜層。

可選的，所述熔射材料包括：鋁。

可選的，所述熔射材料的供給量設(shè)定為40克/分鐘～150克/分鐘。

可選的，對(duì)熔射材料進(jìn)行熔化處理形成熔射液的溫度控制為1200攝氏度～1350攝氏度。