[發(fā)明專利]一種單塔雙循環(huán)脫硫除塵裝置及工藝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611270122.8
• 申請日: 2016-12-30
• 公開（公告）號: CN106693657B
• 公開（公告）日: 2019-10-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳忠標(biāo);李澤清;王岳軍;陳美秀;莫建松;葉濤
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江天藍環(huán)保技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: B01D53/80
• 分類號: B01D53/80;B01D53/50;B01D50/00
• 代理公司: 杭州天勤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33224
• 代理人: 黃平英

1.一種單塔雙循環(huán)脫硫除塵裝置，包括吸收塔，所述吸收塔的側(cè)壁上設(shè)置煙氣入口、頂部設(shè)置煙氣出口，所述吸收塔內(nèi)底部為內(nèi)塔釜；其特征在于，所述吸收塔內(nèi)且位于煙氣入口上方由下至上依次設(shè)置托盤孔板、粗脫硫噴淋器、氣體再分布及集液層、精脫硫噴淋器和旋流除霧器，所述粗脫硫噴淋器通過循環(huán)泵連通內(nèi)塔釜，所述精脫硫噴淋器通過循環(huán)泵與外塔釜相連；所述氣體再分布及集液層包括固定在吸收塔塔壁且全部覆蓋吸收塔橫截面的集液部和位于集液部下方且安裝高度可調(diào)的氣體再分布部，所述集液部連通過管路與外塔釜相連，所述氣體再分布部包括若干相互平行且水平設(shè)置的圓管，相鄰圓管之間的間隙為氣體通道；

所述集液部包括：

若干水平設(shè)置且開口朝上的半圓管，所述半圓管與所述氣體再分布部的圓管交錯布置；

以及與所有半圓管的同一端銜接用于匯集半圓管中漿液的漿液匯集管，所述漿液匯集管路與外塔釜連通；

所有圓管固定在活動支架上，所述吸收塔的塔壁上開設(shè)有與所述活動支架端部匹配的豎向條形孔，所述活動支架的端部貫穿對應(yīng)條形孔后與緊固部件相連，豎向條形孔處且位于吸收塔外壁上設(shè)置密封裝置；所述半圓管的弦長為圓管直徑的0.7～0.8倍；所述圓管的直徑為50-200mm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述單塔雙循環(huán)脫硫除塵裝置，其特征在于，所述集液部與氣體再分布部之間的間距為5-40mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述單塔雙循環(huán)脫硫除塵裝置，其特征在于，所述精脫硫噴淋器位于集液部上方2-10m處。

4.一種單塔雙循環(huán)脫硫除塵工藝，其特征在于，采用如權(quán)利要求1所述單塔雙循環(huán)脫硫除塵裝置，包括如下步驟：

(1)粗脫硫噴淋器向下噴淋脫硫漿液并在托盤孔板內(nèi)形成積液層，煙氣由煙氣入口進入吸收塔內(nèi)，向上穿過托盤孔板，經(jīng)托盤孔板整流后穿過積液層，煙氣中大部分的SO₂和粉塵在湍流區(qū)與被脫硫漿液吸收，氣流在穿過積液層時受阻力影響實現(xiàn)均勻分布；

(2)流場均勻的煙氣向上與粗脫硫噴淋器噴出的噴淋漿液均衡接觸、反應(yīng)，煙氣中殘留的SO₂和粉塵進一步去除；

(3)完成粗脫硫除塵后的煙氣向上穿過氣體再分布及集液層，在氣體再分布及集液層中的氣體沿管與管之間的縫隙上行，高速氣流將精脫硫噴淋器噴出的漿液霧化，同時煙氣冷凝飽和，霧化后的細小漿液霧滴與煙氣中SO₂和粉塵反應(yīng)吸收，一部分隨氣流上升凝聚成粒徑較大的液滴并沉降，通過氣體再分布及集液層的集液部排入外塔釜，另一部分細小液滴繼續(xù)上升進入旋流除霧器，帶有細小液滴的飽和煙氣經(jīng)過旋流除霧器，最終凈化后的煙氣由塔頂?shù)臒煔獬隹谂湃霟焽枧欧牛?/p>

粗脫硫噴淋器噴出的漿液液氣比為5-8L/m³、漿液pH值為4.5-7；精脫硫噴淋器噴出的漿液液氣比為0.5-1.5L/m³、液滴粒徑為300-1500μm、漿液pH值為6-9；

煙氣在吸收塔主塔內(nèi)氣速為3-5m/s；穿過氣體再分布及集液層的流速為7-20m/s、阻力為300-800Pa。