[發(fā)明專利]一種輔助圖形的添加方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611259536.0 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106527040B | 公開(公告)日: | 2019-10-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡紅梅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海集成電路研發(fā)中心有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/36 | 分類號(hào): | G03F1/36 |
| 代理公司: | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吳世華;陳慧弘 |
| 地址: | 201210 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 輔助圖形 目標(biāo)圖形 基準(zhǔn)規(guī)則 放大 減去 疊加 參考 | ||
1.一種輔助圖形的添加方法,其特征在于,包括:
步驟01:提供一OPC目標(biāo)圖形,根據(jù)輔助圖形基準(zhǔn)規(guī)則,選取其中只能加入一根輔助圖形部分的規(guī)則,建立輔助圖形額外規(guī)則;其中,OPC目標(biāo)圖形中已有輔助圖形;
步驟02:把目標(biāo)圖形整體進(jìn)行放大,使目標(biāo)圖形的所有邊向外擴(kuò)展A距離;A為非負(fù)數(shù),A的單位為長(zhǎng)度單位;
步驟03:基于輔助圖形額外規(guī)則,將所述輔助圖形額外規(guī)則中相應(yīng)目標(biāo)圖形之間的距離值減去2A;并且,基于A距離,將輔助圖形額外規(guī)則中因目標(biāo)圖形整體放大而受到影響的其他參數(shù)進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整;
步驟04:運(yùn)行輔助圖形額外規(guī)則,生成第一輔助圖形;
步驟05:以第一輔助圖形作為新增的參考圖形,對(duì)目標(biāo)圖形執(zhí)行輔助圖形基準(zhǔn)規(guī)則,生成第二輔助圖形;將第一輔助圖形,第二輔助圖形和已有輔助圖形疊加構(gòu)成最終的輔助圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輔助圖形的添加方法,其特征在于,所述步驟02中,A距離小于目標(biāo)圖形所允許的最小間距的1/2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輔助圖形的添加方法,其特征在于,所述輔助圖形基準(zhǔn)規(guī)則和輔助圖形額外規(guī)則中的輔助圖形均為邊輔助圖形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輔助圖形的添加方法,其特征在于,所述步驟01中,在建立輔助圖形額外規(guī)則之前,還包括:基于輔助圖形基準(zhǔn)規(guī)則,對(duì)目標(biāo)圖形建立初始基于規(guī)則的輔助圖形;步驟05中,還包括:以第一輔助圖形、初始基于規(guī)則的輔助圖形、原始輸入輔助圖形和原始輸入?yún)⒖紙D形作為參考圖形,對(duì)目標(biāo)圖形執(zhí)行輔助圖形基準(zhǔn)規(guī)則,生成第二輔助圖形;最終的輔助圖形是將第一輔助圖形、第二輔助圖形、初始基于規(guī)則的輔助圖形和原始輸入輔助圖形疊加構(gòu)成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輔助圖形的添加方法,其特征在于,所述初始基于規(guī)則的輔助圖形包括:邊輔助圖形(side bar)和角輔助圖形(corner bar)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輔助圖形的添加方法,其特征在于,所述目標(biāo)圖形為通孔圖形。
7.權(quán)利要求1所述的輔助圖形的添加方法,其特征在于,所述輔助圖形均為亞分辨率圖形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輔助圖形的添加方法,其特征在于,步驟04之后且在所述步驟05之前,還包括:將步驟01中的OPC目標(biāo)圖形替代放大后的OPC目標(biāo)圖形。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海集成電路研發(fā)中心有限公司,未經(jīng)上海集成電路研發(fā)中心有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611259536.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
- 集成電路的可制造性設(shè)計(jì)方法
- 光學(xué)鄰近校正方法及雙重圖形曝光方法
- 集成目標(biāo)圖形優(yōu)化與光學(xué)鄰近修正的方法
- 一種基于圖形庫(kù)優(yōu)化目標(biāo)圖形的光學(xué)臨近修正方法
- 一種圖形自動(dòng)對(duì)齊的方法及裝置
- 圖形元素檢測(cè)識(shí)別和類別確定的方法及裝置
- 圖形碼識(shí)別方法、裝置、終端及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種圖形評(píng)估方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種圖形顯示方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種模擬凹角目標(biāo)圖形生成的優(yōu)化方法
- 便攜終端及其位置確定方法
- 一種欺詐交易模型的特征值確定方法及裝置
- 室內(nèi)定位方法、裝置及導(dǎo)航裝置和系統(tǒng)
- 管理設(shè)備的腳本文件的方法和裝置
- 一種規(guī)則分析方法以及相應(yīng)的用于規(guī)則分析的裝置
- 一種代碼生成方法、系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 頁面顏色主題的切換方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子設(shè)備
- 一種不規(guī)則曲面構(gòu)建方法
- 醫(yī)用信息處理系統(tǒng)、醫(yī)用信息處理裝置以及醫(yī)用信息處理方法
- 用于評(píng)估模糊邏輯規(guī)則的電路和方法





