[發(fā)明專利]表膜及其制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611255242.0
• 申請(qǐng)日: 2016-12-30
• 公開（公告）號(hào): CN106997847A
• 公開（公告）日: 2017-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬正鑫;吳小真;楊棋銘;陳其賢;林志誠;林云躍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/033
• 分類號(hào): H01L21/033
• 代理公司: 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11287
• 代理人: 路勇

1.一種制造表膜的方法，其包含：

提供支撐襯底；

形成氧化物層于所述支撐襯底上方；

形成金屬層于所述氧化物層上方；

形成石墨烯層于所述金屬層上方；以及

去除所述支撐襯底與所述氧化物層的至少一部分。