[發(fā)明專利]一種彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611245102.5
• 申請(qǐng)日: 2016-12-29
• 公開（公告）號(hào): CN106773251A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 向長江;張俠
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東旭（昆山）顯示材料有限公司;東旭集團(tuán)有限公司;東旭科技集團(tuán)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335;G02F1/1339
• 代理公司: 北京潤平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11283
• 代理人: 韓冰,嚴(yán)政

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示器的加工領(lǐng)域，具體地，涉及一種彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器。

背景技術(shù)

液晶顯示面板主要由彩膜基板、陣列基板和夾在兩基板之間的液晶組成，彩膜基板上還設(shè)有用以支撐液晶盒的柱隔墊物，為了防止產(chǎn)線波動(dòng)帶來的Bubble(氣泡)或重力Mura(指顯示器亮度不均勻，出現(xiàn)光斑)現(xiàn)象，需要在彩膜基板上設(shè)置兩種不同高度的柱狀隔墊物，從而降低產(chǎn)線波動(dòng)時(shí)固定液晶量對(duì)液晶顯示面板造成Bubble或重力Mura的風(fēng)險(xiǎn)。

在現(xiàn)有技術(shù)中，一般通過half tone mask(半色調(diào)掩膜)在彩膜基板形成兩種不同高度的柱狀隔墊物，但是在使用half tone mask(半色調(diào)掩膜)進(jìn)行曝光時(shí)，兩種不同高度的柱狀隔墊物對(duì)應(yīng)的曝光強(qiáng)度是不同的，由于曝光衍射，較高的曝光強(qiáng)度會(huì)對(duì)較低的曝光強(qiáng)度所對(duì)應(yīng)的柱狀隔墊物造成影響，使得較低的曝光強(qiáng)度所對(duì)應(yīng)的柱狀隔墊物出現(xiàn)火山口狀不良，從而導(dǎo)致柱狀隔墊物對(duì)液晶顯示面板的支撐強(qiáng)度變低，當(dāng)液晶顯示面板受到按壓時(shí)會(huì)出現(xiàn)Gap性不良(受壓造成的顯示不均勻)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器，以降低顯示面板受到按壓時(shí)出現(xiàn)Gap性不良的風(fēng)險(xiǎn)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，在本發(fā)明中提供了一種彩膜基板，該彩膜基板包括襯底基板、黑矩陣、像素單元、平坦化層、凸塊和柱隔墊物；其中所述黑矩陣和像素單元形成在所述襯底基板上，所述黑矩陣填充在相鄰的彩色像素單元之間；所述平坦化層形成在所述黑矩陣和像素單元上；所述凸塊形成在所述平坦化層上、位于部分黑矩陣的上方；所述柱隔墊物包括第一柱隔墊物和第二柱隔墊物，所述第一柱隔墊物形成在所述凸塊上，所述第二柱隔墊物形成在所述平坦化層上、位于未形成凸塊的部分黑矩陣上。

同時(shí)，在本發(fā)明中還提供了一種彩膜基板的制備方法，該制備方法包括：S1、在襯底基板上形成黑矩陣和像素單元，所述黑矩陣填充在相鄰的彩色像素單元之間；S2、在所述黑矩陣和像素單元上形成平坦化層、并在所述平坦化層上、位于部分黑矩陣的上方形成凸塊；S3、同時(shí)在所述凸塊的上方形成第一柱隔墊物，在所述平坦化層上、位于未形成凸塊的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物。

另外，在本發(fā)明中還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括陣列基板、彩膜基板以及設(shè)置在兩者之間的液晶層，該彩膜基板為根據(jù)本發(fā)明所述的彩膜基板。

此外，在本發(fā)明中還提供了一種顯示器，該顯示器包括顯示面板，所述顯示面板為根據(jù)本發(fā)明的顯示面板。

應(yīng)用本發(fā)明所提供的上述彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器，通過在彩膜基板的平坦化層上形成凸塊，使得后續(xù)形成隔墊物的步驟中，無需采用半色調(diào)掩膜就能夠在同一步驟中同時(shí)形成位于所述凸塊的上方形成第一柱隔墊物，以及在所述平坦化層上、位于未形成凸塊的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物。通過設(shè)置所述凸塊，使得第一柱隔墊物和第二柱隔墊物頂部的相對(duì)高度不同，能夠降低產(chǎn)線波動(dòng)時(shí)固定液晶量對(duì)液晶顯示面板造成Bubble或重力Mura的風(fēng)險(xiǎn)；而通過相同工藝制備，使得第一柱隔墊物和第二柱隔墊物的頂面平整、強(qiáng)度相同，能夠降低顯示面板受到按壓時(shí)會(huì)出現(xiàn)Gap性不良的風(fēng)險(xiǎn)。

本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說明。

附圖說明

附圖是用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的具體實(shí)施方式一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。在附圖中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一種實(shí)施例的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2-1至圖2-4示出了根據(jù)本發(fā)明一種實(shí)施例的制備彩膜基板的流程示意圖；

圖3-1至圖3-6示出了根據(jù)本發(fā)明另一種實(shí)施例的制備彩膜基板的流程示意圖。

附圖標(biāo)記說明

1為襯底基板、2為黑矩陣、3為像素單元、31為紅色像素單元、32為綠色像素單元、33為藍(lán)色像素單元、4為平坦化層、4′為平坦化層預(yù)備體、5為凸塊、61為第一柱隔墊物、62為第二柱隔墊物、7為凸塊光刻膠層、8為犧牲光刻膠層、8′為掩膜塊。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的具體實(shí)施方式僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。

在本發(fā)明中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上”和“下為本領(lǐng)域通常意義下的相對(duì)位置關(guān)系，例如附圖1所示結(jié)構(gòu)下的相對(duì)位置關(guān)系。