[發(fā)明專利]一種彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611245102.5
• 申請日: 2016-12-29
• 公開（公告）號: CN106773251A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 向長江;張俠
• 申請（專利權(quán)）人: 東旭（昆山）顯示材料有限公司;東旭集團(tuán)有限公司;東旭科技集團(tuán)有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1339
• 代理公司: 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11283
• 代理人: 韓冰,嚴(yán)政

1.一種彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括襯底基板(1)、黑矩陣(2)、像素單元(3)、平坦化層(4)、凸塊(5)和柱隔墊物；其中所述黑矩陣(2)和像素單元(3)形成在所述襯底基板(1)上，所述黑矩陣(2)填充在相鄰的彩色像素單元(3)之間；所述平坦化層(4)形成在所述黑矩陣(2)和像素單元(3)上；所述凸塊(5)形成在所述平坦化層(4)上、位于部分黑矩陣(2)的上方；所述柱隔墊物包括第一柱隔墊物(61)和第二柱隔墊物(62)，所述第一柱隔墊物(61)形成在所述凸塊(5)上，所述第二柱隔墊物(62)形成在所述平坦化層(4)上、位于未形成凸塊(5)的部分黑矩陣(2)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其中，所述第一柱隔墊物(61)和第二柱隔墊物(62)的高度相同，分別為3-4μm，所述凸塊(5)的高度為0.3-0.6μm，優(yōu)選0.4-0.5μm；

優(yōu)選地，所述凸塊(5)與所述平坦化層(4)一體成型。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述像素單元(3)包括兩兩相鄰的紅色像素單元(31)、綠色像素單元(32)和藍(lán)色像素單元(33)。

4.一種彩膜基板的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

S1、在襯底基板(1)上形成黑矩陣(2)和像素單元(3)，所述黑矩陣(2)填充在相鄰的彩色像素單元(3)之間；

S2、在所述黑矩陣(2)和像素單元(3)上形成平坦化層(4)、并在所述平坦化層(4)上、位于部分黑矩陣(2)的上方形成凸塊(5)；

S3、同時(shí)在所述凸塊(5)的上方形成第一柱隔墊物(61)，在所述平坦化層(4)上、位于未形成凸塊(5)的部分黑矩陣(2)的上方形成第二柱隔墊物(62)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其中，所述S2包括：

S21、在所述黑矩陣(2)和像素單元(3)上形成平坦化層(4)；

S22、在所述平坦化層(4)上涂覆凸塊光刻膠(7)，形成凸塊光刻膠層；

S23、對所述凸塊光刻膠層(7)進(jìn)行曝光顯影，在所述平坦化層(4)上、位于部分黑矩陣(2)的上方形成凸塊前體；

S24、干燥所述凸塊前體形成所述凸塊(5)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其中，所述S2包括：

S21、在所述黑矩陣(2)和像素單元(3)上形成平坦化層預(yù)備體(4′)；

S22、在所述平坦化層預(yù)備體上涂覆犧牲光刻膠，形成犧牲光刻膠層(8)；

S23、對所述犧牲光刻膠層(8)進(jìn)行曝光顯影，在所述平坦化層預(yù)備體(4′)上、位于部分黑矩陣(2)的上方形成掩膜塊(8′)；

S24、沿所述掩膜塊(8′)向下干法刻蝕所述平坦化層預(yù)備體(4′)，形成平坦化層(4)和在所述平坦化層(4)上、位于部分黑矩陣(2)的上方形成凸塊(5)；

S25、去除所述掩膜塊(8′)。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，所述S4包括：

S31、在所述平坦化層(4)和所述凸塊(5)上涂覆柱隔墊物光刻膠，形成柱隔墊物光刻膠層；

S32、在所述柱隔墊物光刻膠層進(jìn)行曝光顯影，在所述凸塊(5)的上方形成第一柱隔墊物前體，在所述平坦化層(4)上、位于未形成凸塊(5)的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物前體；

S33、干燥所述第一柱隔墊物前體和所述第二柱隔墊物前體形成第一柱隔墊物(61)和第二柱隔墊物(62)。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，所述S2中形成的所述像素單元包括兩兩相鄰的紅色像素單元(31)、綠色像素單元(32)和藍(lán)色像素單元(33)。

9.一種顯示面板，所述顯示面板包括陣列基板、彩膜基板以及設(shè)置在兩者之間的液晶層，其特征在于，所述彩膜基板為權(quán)利要求1或2所述的彩膜基板。

10.一種顯示器，所述顯示器包括顯示面板，其特征在于，所述顯示面板為權(quán)利要求9所述的顯示面板。