[發明專利]一種制備平坦化液晶顯示器膜層的方法

有效

• 申請號: 201611244077.9
• 申請日: 2016-12-29
• 公開（公告）號: CN106773171B
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發明（設計）人: 岳守振;張蒙蒙
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/133;G02F1/1333;G03F7/20;G03F7/30
• 代理公司: 北京聿宏知識產權代理有限公司 11372
• 代理人: 吳大建

本發明涉及一種制備平坦化液晶顯示器膜層的方法，其包括：在基板上形成一以液晶顯示器膜層掩膜版進行顯影后的負性光阻層；在基板上形成一平坦化的液晶顯示器膜層，所述平坦化液晶顯示器膜層嵌入顯影后負性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內并與顯影后負性光阻層平齊。本發明所述的平坦化液晶顯示器膜層的方法，能夠降低走線厚度對陣列成膜地形的影響，在不影響產品良率的前提下，實現低電阻布線，從而降低大尺寸面板信號傳輸的RC delay。同時采用該方法，可以制作比傳統方法更厚的金屬層，有效降低大尺寸面板走線的負載，降低信號線電阻，減小信號延遲，提升顯示質量。

技術領域

本發明屬于液晶顯示技術領域，具體涉及一種制備平坦化液晶顯示器膜層的方法。

背景技術

目前，大尺寸、高分辨率顯示面板已經成為液晶顯示器(LCD)的一個發展趨勢。然而，隨著LCD面板尺寸的不斷增大，Gate和Data走線的信號延遲(RC delay)也不斷增大(如圖1所示)，過大的信號延遲會引起像素區充電不足和錯充等現象，嚴重影響LCD面板的顯示質量，例如LCD面板顯示不良，畫面異常。

為了解決上述問題，現有技術中提出增加金屬層厚度，在不增加電容的情況下，降低電阻、減小信號線負載。但金屬層過厚，會影響陣列(Array)成膜的地形，導致金屬層上覆蓋的膜層爬坡困難，出現斷裂(如圖2所示)，引起走線腐蝕，短接等問題，嚴重降低產品成品率。同時傳統的陣列制程沒有平坦化工藝，限制了信號線阻值的持續降低。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是針對現有技術的不足提供一種提高LCD膜層平坦度的方法，降低走線厚度對陣列成膜地形的影響，在不影響產品良率的前提下，實現低電阻布線，從而降低大尺寸面板信號傳輸的RC delay。

為此，本發明第一方面提供了一種平坦化液晶顯示器膜層，其結構包括：

基板；

顯影處理后負性光阻層，其位于基板的上表面；

平坦化液晶顯示器膜層，其嵌入顯影后負性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內，并與顯影后負性光阻層平齊。

在本發明的一些實施方式中，所述平坦化液晶顯示器膜層的結構還包括

負性光阻層保護層，其位于平坦化液晶顯示器膜層之下，同時覆蓋于顯影處理后負性光阻層的表面，以及具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面。

本發明第二方面提供了一種制備如第一方面所述平坦化液晶顯示器膜層的方法，其包括：

步驟A，在基板上涂布負性光阻層，并利用液晶顯示器膜層掩模版對負性光阻層進行曝光處理，獲得覆蓋于基板上的曝光處理后負性光阻層；

步驟B，對曝光處理后負性光阻層進行顯影處理，在覆蓋于基板上表面的顯影處理后負性光阻層中形成具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙；

步驟D，在顯影處理后負性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面濺射生長液晶顯示器膜層，使液晶顯示器膜層覆蓋于顯影處理后負性光阻層表面，同時覆蓋具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面；

步驟E，在液晶顯示器膜層表面涂布正性光阻層，使正性光阻層覆蓋液晶顯示器膜層表面，并填充具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙；

步驟F，利用液晶顯示器膜層掩模版對正性光阻層進行曝光處理，并進行顯影處理，所形成的顯影處理后正性光阻層嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內；

步驟G，利用光阻圖案掩膜刻蝕掉多余的液晶顯示器膜層，獲得平坦化液晶顯示器膜層。

在本發明的一些實施方式中，所述方法還包括在顯影處理后負性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面涂覆負性光阻層保護層的步驟C。