[發明專利]一種制備平坦化液晶顯示器膜層的方法

有效

• 申請號: 201611244077.9
• 申請日: 2016-12-29
• 公開（公告）號: CN106773171B
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發明（設計）人: 岳守振;張蒙蒙
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/133;G02F1/1333;G03F7/20;G03F7/30
• 代理公司: 北京聿宏知識產權代理有限公司 11372
• 代理人: 吳大建

1.一種制備平坦化液晶顯示器膜層的方法，其包括：

步驟A，在基板上涂布負性光阻層，并利用液晶顯示器膜層掩模版對負性光阻層進行曝光處理，獲得覆蓋于基板上的曝光處理后負性光阻層；

步驟B，對曝光處理后負性光阻層進行顯影處理，在覆蓋于基板上表面的顯影處理后負性光阻層中形成具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙；

步驟D，在顯影處理后負性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面濺射生長液晶顯示器膜層，使液晶顯示器膜層覆蓋于顯影處理后負性光阻層表面，同時覆蓋具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面；

步驟E，在液晶顯示器膜層表面涂布正性光阻層，使正性光阻層覆蓋液晶顯示器膜層表面，并填充具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙；

步驟F，利用液晶顯示器膜層掩模版對正性光阻層進行曝光處理，并進行顯影處理，所形成的顯影處理后正性光阻層嵌入液晶顯示器膜層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內；

步驟G，利用光阻圖案掩膜刻蝕掉多余的液晶顯示器膜層，獲得平坦化液晶顯示器膜層，平坦化液晶顯示器膜層嵌入顯影后負性光阻層的具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙內并與顯影后負性光阻層平齊。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括在顯影處理后負性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面涂覆負性光阻層保護層的步驟C。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步驟A中，涂覆負性光阻層的厚度為液晶顯示器膜層厚度的1.0-1.5倍。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步驟D中，在表面覆蓋有負性光阻層保護層的顯影處理后負性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙表面濺射生長液晶顯示器膜層，使液晶顯示器膜層覆蓋于表面覆蓋有負性光阻層保護層的顯影處理后負性光阻層表面和具有液晶顯示器膜層定義形狀的空隙的表面。

5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述負性光阻層保護層的厚度為0.1-0.2μm。

6.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述負性光阻層保護層的材料為氮化硅或氧化硅。

7.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述液晶顯示器膜層材料為金屬M1、金屬M2或黑矩陣(BM)；所述基板為玻璃基板或塑料基板。