[發明專利]氧化銦?氧化鋅類（IZO）濺射靶及其制造方法在審
| 申請號： | 201611242711.5 | 申請日： | 2016-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN107267936A | 公開（公告）日： | 2017-10-20 |
| 發明（設計）人： | 掛野崇 | 申請（專利權）人： | 捷客斯金屬株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司11219 | 代理人： | 胡嵩麟,王海川 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化 氧化鋅 izo 濺射 及其 制造 方法 | ||
1.一種濺射靶，其為包含In、Zn、O的濺射靶，其特征在于，Zn和In的原子比滿足0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.30，并且該靶的濺射面內的體電阻率的標準偏差為1.0mΩ·cm以下。
2.如權利要求1所述的濺射靶，其特征在于，所述濺射靶的體電阻率為1.0mΩ·cm～10mΩ·cm。
3.如權利要求1或2所述的濺射靶，其特征在于，所述濺射靶的相對密度為98％以上。
4.如權利要求1至3中任一項所述的濺射靶，其特征在于，濺射面的面積為60000mm2～400000mm2。
5.一種IZO燒結體，其為包含In、Zn、O的燒結體，其特征在于，Zn和In的原子比滿足0.05≤Zn/(In+Zn)≤0.30，并且翹曲量為2.0mm以內。
6.一種濺射靶的制造方法，其為包含通過對將原料粉末壓制成形而得到的成形體進行燒結而制造的IZO燒結體的濺射靶的制造方法，其特征在于，在從室溫升溫至燒結溫度的工序中，包含以下工序：
將中途保持溫度設定為600℃～800℃，并保持1小時～10小時的工序；
以0.2℃/分鐘～2.0℃/分鐘的速度從該中途保持溫度升溫至燒結溫度的工序；和
將燒結溫度設定為1350℃～1500℃，并以1小時～100小時的燒結保持時間進行燒結的工序。
7.如權利要求6所述的濺射靶的制造方法，其特征在于，將燒結溫度設定為1380℃～1420℃。
8.如權利要求6或7所述的濺射靶的制造方法，其特征在于，以5小時～30小時的燒結保持時間進行燒結。
9.如權利要求6至8中任一項所述的濺射靶的制造方法，其特征在于，以1.0℃/分鐘～5.0℃/分鐘的速度進行降溫。
10.如權利要求6至9中任一項所述的濺射靶的制造方法，其特征在于，以0.5℃/分鐘～1.5℃/分鐘的速度從中途保持溫度升溫至燒結溫度。
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