[發明專利]一種掩膜及包含該掩膜的設備

在審

• 申請號: 201611241237.4
• 申請日: 2016-12-29
• 公開（公告）號: CN106842813A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: 王松;張瑞軍;李培宏
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F1/50
• 分類號: G03F1/50;G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 北京聿宏知識產權代理有限公司11372
• 代理人: 吳大建

1.一種掩膜，包括X偏光片、Y偏光片，所述X偏光片的偏振方向與所述Y偏光片的偏振方向相互垂直，所述X偏光片設置在X平面內，所述Y偏光片設置在Y平面內，所述X平面與所述Y平面平行設置，

所述X偏光片在所述X平面內沿X向設置，所述Y偏光片在所述Y平面內沿Y向設置，所述X向與所述Y向之間的夾角大于0度，

所述X平面或所述Y平面的法線方向定義為Z向，沿所述Z向方向觀測，所述X偏光片與所述Y偏光片交疊設置，所述X偏光片與所述Y偏光片的交疊區域形成第一交疊區域，所述第一交疊區域阻擋光線透過，

所述第一交疊區域之外的區域允許光線透過。

2.根據權利要求1所述的掩膜，其特征在于，所述X偏光片呈長方形，所述Y偏光片呈長方形。

3.根據權利要求2所述的掩膜，其特征在于，所述X向與所述Y向之間的夾角呈90度，

沿所述Z向觀測，所述第一交疊區域沿X向的寬度等于所述Y偏光片在X向的寬度，所述第一交疊區域沿Y向的寬度等于所述X偏光片在Y向的寬度。

4.根據權利要求3所述的掩膜，其特征在于，所述X偏光片數量設置為多個，多個所述X偏光片均位于不同的平面內，多個所述X偏光片相互平行設置，每個所述X偏光片在所屬的平面內均沿所述X向設置，

沿所述Z向觀測，多個所述X偏光片沿Y向的對稱軸相互重合，多個所述X偏光片沿Y向依次排列，每相鄰的兩個所述X偏光片交疊設置，多個所述X偏光片構成X組合偏光片，

沿所述Z向觀測，所述Y偏光片與所述X組合偏光片的交疊區域構成第二交疊區域，所述第二交疊區域沿X向的寬度等于所述Y偏光片在X向的寬度，所述第二交疊區域沿Y向的寬度等于所述X組合偏光片在Y向的寬度，通過調節X偏光片相互之間的交疊程度調節所述第二交疊區域沿Y向的寬度，

所述第二交疊區域阻擋光線透過，所述第二交疊區域之外的區域允許光線透過。

5.根據權利要求4所述的掩膜，其特征在于，所述Y偏光片數量設置為多個，多個所述Y偏光片均位于不同的平面內，多個所述Y偏光片相互平行設置，每個所述Y偏光片在所屬的平面內均沿所述Y向設置，

沿所述Z向觀測，多個所述Y偏光片沿X向的對稱軸相互重合，多個所述Y偏光片沿X向依次排列，每相鄰的兩個所述Y偏光片交疊設置，多個所述Y偏光片構成Y組合偏光片，

沿所述Z向觀測，所述Y組合偏光片與所述X組合偏光片的交疊區域構成第三交疊區域，所述第三交疊區域沿X向的寬度等于所述Y組合偏光片在X向的寬度，所述第三交疊區域沿Y向的寬度等于所述X組合偏光片在Y向的寬度，通過調節X偏光片相互之間的交疊程度調節所述第三交疊區域沿Y向的寬度，通過調節Y偏光片相互之間的交疊程度調節所述第三交疊區域沿X向的寬度，

所述第三交疊區域阻擋光線透過，所述第三交疊區域之外的區域允許光線透過。

6.一種掩膜的設備，其特征在于，所述設備包含權利要求1至5中任意一項所述的掩膜，所述設備自下而上依次包括載物臺、X向運動裝置、Y向運動裝置和曝光光學系統，其中，

所述載物臺上設置基板，

所述X向運動裝置夾持Y偏光片沿X向移動，所述Y向運動裝置夾持X偏光片沿Y向移動，所述X向與所述Y向相互垂直，所述X偏光片的偏振方向與所述Y偏光片的偏振方向相互垂直，所述X偏光片與所述Y偏光片在所述基板上方交疊形成第一交疊區域，

所述曝光光學系統發出的光無法透過所述第一交疊區域，所述曝光光學系統發出的光對所述第一交疊區域之外的區域進行曝光處理。

7.根據權利要求6所述的設備，其特征在于，所述Y向運動裝置數量設置為多個，其中，

每個Y向運動裝置分別夾持一個X偏光片沿Y向運動，每個X偏光片均處于不同的夾持平面內，多個X偏光片所屬的夾持平面相互平行，

自上而下觀測，多個被夾持的X偏光片沿Y向依次排列，每相鄰的兩個被夾持的X偏光片交疊設置，多個被夾持的X偏光片構成X組合偏光片，

自上而下觀測，所述Y偏光片與所述X組合偏光片的交疊區域構成第二交疊區域，所述曝光光學系統發出的光無法透過所述第二交疊區域，所述曝光光學系統發出的光對所述第二交疊區域之外的區域進行曝光處理，

通過移動被夾持的X偏光片調節X組合偏光片沿Y向的寬度，進而調節所述第二交疊區域沿Y向的寬度。

8.根據權利要求7所述的設備，其特征在于，所述X向運動裝置數量設置為多個，其中，

每個X向運動裝置分別夾持一個Y偏光片沿X向運動，每個Y偏光片均處于不同的夾持平面內，每個Y偏光片所屬的夾持平面相互平行，

自上而下觀測，多個被夾持的Y偏光片沿X向依次排列，每相鄰的兩個被夾持的Y偏光片交疊設置，多個被夾持的Y偏光片構成Y組合偏光片，

自上而下觀測，所述Y組合偏光片與所述X組合偏光片的交疊區域構成第三交疊區域，所述曝光光學系統發出的光無法透過所述第三交疊區域，所述曝光光學系統發出的光對所述第三交疊區域之外的區域進行曝光處理，

通過移動被夾持的Y偏光片調節Y組合偏光片沿X向的寬度，進而調節所述第三交疊區域沿X向的寬度，通過移動被夾持的Y偏光片調節Y組合偏光片沿X向的寬度，進而調節所述第三交疊區域沿X向的寬度。