[發明專利]一種敏感肌膚專用的卸妝膏及其制備方法在審
| 申請號: | 201611239705.4 | 申請日: | 2016-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN106726774A | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發明(設計)人: | 夏國順 | 申請(專利權)人: | 安徽紫檀科技有限公司 |
| 主分類號: | A61K8/92 | 分類號: | A61K8/92;A61K8/34;A61K8/37;A61K8/25;A61K8/60;A61K8/63;A61Q1/14;A61Q19/00 |
| 代理公司: | 北京精金石專利代理事務所(普通合伙)11470 | 代理人: | 劉曄 |
| 地址: | 230000 安徽省合肥市經濟技*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 敏感 肌膚 專用 卸妝 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于化妝品清潔技術領域,具體涉及到一種敏感肌膚專用的卸妝膏及其制備方法。
背景技術
敏感性皮膚是一種病理性的皮膚,抵抗性很差,環境改變及氣候變化都有可能導致皮膚過敏,因此如何增強皮膚的抵抗力與如何找到一種適合敏感肌膚的護膚品變得十分重要。敏感肌膚主要分為先天性敏感肌膚和后天性敏感肌膚,主要原因包括:
1、先天性:由于遺傳因素造成,容易受壞境因素、季節變化及面部保養品刺激。
2、后天性:皮膚細胞受損導致免疫力下降,化妝品使用不當,造成皮膚表層受到破壞,通常是使用了激素性的產品造成了激素依賴性皮炎,導致了皮膚敏感,主要表現為使用其他化妝品容易過敏,出現紅血絲。
所以,大部分敏感肌膚都是細胞受損、免疫力差導致,而化妝品中容易刺激到皮膚的就是清潔用品,例如:1、不使用清潔力很強的洗面奶;2、油性肌膚一天洗臉次數過多不應超過2次;3、洗臉的溫度不能太高也不能太冷;4、少使用清潔面膜;5、使用面部去角質類產品。但是由于現代人們通常會化妝,因此,皮膚的清潔必不可收,敏感肌膚專用的卸妝膏變得十分重要。
公開號為104800100A的中國專利申請公開了一種溫和高效免洗卸妝膏,主要有以下重量百分比的組分組成:聚乙烯2%~10%,鯨蠟醇乙基己酸酯2%~20%,PEG-10異硬脂酸酯2%~20%,PEG-20甘油三異硬脂酸酯2%~20%,生育酚乙酸酯0.2%~1%,苯基聚三甲基硅氧烷2%~10%,糊精棕櫚酸酯0.2%~3.0%,余量為辛酸/癸酸甘油三酯。該發明的卸妝膏卸妝能力良好、性質溫和、安全性高、方便易攜帶。但是該化妝品水相含量過低,使用后不容易洗凈,有滑膩的感覺,舒適度不足。
公開號為104983644A的中國專利申請公開了一種具有修復作用的免洗卸妝油,該免洗卸妝油包括:印加果油、橄欖油、乳化劑、植物多酚和維生素E。該卸妝油油脂中的天然活性物質可被肌膚自然吸收,起到修復皮膚的作用;可以有效舒緩肌膚的不適感,有助于提高肌膚的耐受閾值。另外,該卸妝油油膩性小,質地輕、涂抹性好,安全無刺激,用后無需清洗,適合各種膚質特別是敏感性膚質的卸妝。但是,該卸妝油所有成份屬于油相,對皮膚角質層容易軟化,時間越長成分進入皮膚內層,反而容易影響皮膚的耐受力,致使皮膚耐受力變差。
發明內容
為了解決現有技術中的不足,本發明提供了一種敏感肌膚專用的卸妝膏及其制備方法,該卸妝膏配方簡單,不添加香精和防腐劑,溫和不刺激,專為敏感肌膚打造,使用后皮膚不緊繃、不干燥,具有良好的保濕效果。
具體方案如下:
一種敏感肌膚專用的卸妝膏,主要由以下成分組成:橄欖油、甘油、棕櫚酸異辛酯、二氧化硅、聚氧乙烯羊毛脂(CAS.NO.61790-81-6)、烷基糖苷、甘草酸二鉀和水。
進一步的,所述的敏感肌膚專用的卸妝膏,主要由以下質量分數的成分組成:橄欖油20-25%、甘油20-24%、棕櫚酸異辛酯6-8%、二氧化硅3-5%、聚氧乙烯羊毛脂7-9%、烷基糖苷4-6%、甘草酸二鉀7-10%和水20-25%。
優選的,所述的敏感肌膚專用的卸妝膏,由以下質量分數的成分組成:橄欖油23%、甘油22%、棕櫚酸異辛酯7%、二氧化硅4%、聚氧乙烯羊毛脂8%、烷基糖苷5%、甘草酸二鉀8%和水23%。
卸妝膏中添加的橄欖油成分容易溶解殘留在面部的化妝品,并且配合使用聚氧乙烯羊毛脂、烷基糖苷,不僅補充皮膚缺失的營養,而且具有良好的卸妝效果,其中,烷基糖苷天然無刺激穩定且保濕滋潤,該卸妝膏中還添加了甘草酸二鉀,具有抗過敏功效,配合使用二氧化硅,使有效成分更加分散,功效發揮更好。
由于卸妝膏不能長時間與面部皮膚接觸,當接觸時間超過30min后,其中含有的乳化功能成分會進一步滲入皮膚與之相融,包括純天然成分,雖然對皮膚進行了軟化,但是降低了皮膚的抵抗性,因此,卸妝膏的使用必須易清洗,油脂過多會導致清潔困難,但是水相過多會導致混合不均,因此,對卸妝膏的成分進行了限定。
本發明還提供了所述的敏感肌膚專用的卸妝膏的制備方法,步驟為:
S1:將橄欖油、甘油、棕櫚酸異辛酯、聚氧乙烯羊毛脂、烷基糖苷、甘草酸二鉀和水加入攪拌鍋,加熱攪拌10-25min,然后將二氧化硅加入攪拌鍋,繼續攪拌30-45min,得乳液A;
S2:將乳液A降溫至65-75℃,勻質5-10min,降溫至35-45℃,出料即得。
進一步的,步驟S1中加熱溫度為85-90℃。
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