[發明專利]一種敏感肌膚專用的卸妝膏及其制備方法在審
| 申請號： | 201611239705.4 | 申請日： | 2016-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN106726774A | 公開（公告）日： | 2017-05-31 |
| 發明（設計）人： | 夏國順 | 申請（專利權）人： | 安徽紫檀科技有限公司 |
| 主分類號： | A61K8/92 | 分類號： | A61K8/92;A61K8/34;A61K8/37;A61K8/25;A61K8/60;A61K8/63;A61Q1/14;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京精金石專利代理事務所(普通合伙)11470 | 代理人： | 劉曄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市經濟技*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 敏感 肌膚 專用 卸妝 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種敏感肌膚專用的卸妝膏，其特征在于，主要由以下質量分數的成分組成：橄欖油20-25％、甘油20-24％、棕櫚酸異辛酯6-8％、二氧化硅3-5％、聚氧乙烯羊毛脂7-9％、烷基糖苷4-6％、甘草酸二鉀7-10％和水20-25％。
2.根據權利要求1所述的敏感肌膚專用的卸妝膏，其特征在于，由以下質量分數的成分組成：橄欖油23％、甘油22％、棕櫚酸異辛酯7％、二氧化硅4％、聚氧乙烯羊毛脂8％、烷基糖苷5％、甘草酸二鉀8％和水23％。
3.根據權利要求1或2所述的敏感肌膚專用的卸妝膏的制備方法，其特征在于，步驟為：
S1：將橄欖油、甘油、棕櫚酸異辛酯、聚氧乙烯羊毛脂、烷基糖苷、甘草酸二鉀和水加入攪拌鍋，加熱攪拌10-25min，然后將二氧化硅加入攪拌鍋，繼續攪拌30-45min，得乳液A；
S2：將乳液A降溫至65-75℃，勻質5-10min，降溫至35-45℃，出料即得。
4.根據權利要求3所述的敏感肌膚專用的卸妝膏的制備方法，其特征在于，步驟S1中加熱溫度為85-90℃。
5.根據權利要求3所述的敏感肌膚專用的卸妝膏的制備方法，其特征在于，步驟S1中攪拌速度為250-350r/min。
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