[發明專利]一種光伏硅片擴散后藍黑點的去除方法

在審

• 申請號: 201611234486.0
• 申請日: 2016-12-28
• 公開（公告）號: CN106847991A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: 錢明明;王丹萍;蔣志強;陳克;彭彪;萬柳斌
• 申請（專利權）人: 東方環晟光伏（江蘇）有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/02
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司 32218
• 代理人: 劉暢;徐冬濤

1.一種光伏硅片擴散后藍黑點的去除方法，其特征在于光伏硅片經擴散散后有藍黑點，進一步判斷該藍黑點是否已經經過刻蝕和鍍膜工序變成白點；

若擴散后有藍黑點，對此類光伏硅片進行如下處理：

s101、返工片準備；

s102、去除擴散后的氧化層：采用槽式制絨機，在第一個氫氟酸槽配置5％～8％摩爾濃度的氫氟酸溶液，返工片浸泡5分鐘以上；

s103、去除藍黑點：在第二個氫氟酸槽中配置氫氟酸與雙氧水混合溶液，其中：氫氟酸的摩爾濃度為15％～20％，雙氧水的摩爾濃度為10％～12％；將步驟s102處理后的返工片在該混合溶液中浸泡15分鐘以上；

s104、將步驟s103處理后的返工片放入第一個氫氟酸槽中浸泡3分鐘以上；

s105、水洗和烘干后得到干凈的光伏硅片；

若鍍膜后產生白點，對此類光伏硅片進行如下處理：

s201、返工片準備；

s202、去除鍍膜后的氮化硅層：采用槽式制絨機，在第一個氫氟酸槽配置15％～20％摩爾濃度的氫氟酸溶液，浸泡20分鐘以上；

s203、去除白點：在第二個氫氟酸槽中配置氫氟酸與雙氧水混合溶液，其中：氫氟酸的摩爾濃度為15％～20％，雙氧水的摩爾濃度為10％～12％；將步驟s202處理后的返工片在該混合溶液中浸泡15分鐘以上；

s204、將步驟s203處理后的返工片放入第一個氫氟酸槽中浸泡3分鐘以上；

s205、水洗和烘干后得到干凈的光伏硅片。

2.根據權利要求1所述的一種光伏硅片擴散后藍黑點的去除方法，其特征在于步驟s102中：第一個氫氟酸槽中氫氟酸的摩爾濃度為5％，步驟s102的返工片浸泡時間為5分鐘。

3.根據權利要求1所述的一種光伏硅片擴散后藍黑點的去除方法，其特征在于步驟s103中：第二個氫氟酸槽中氫氟酸的摩爾濃度為15％，雙氧水的摩爾濃度為10％，步驟s103的返工片浸泡時間為15分鐘。

4.根據權利要求1所述的一種光伏硅片擴散后藍黑點的去除方法，其特征在于步驟s104的返工片浸泡時間為3分鐘。

5.根據權利要求1所述的一種光伏硅片擴散后藍黑點的去除方法，其特征在于步驟s202中：第一個氫氟酸槽中氫氟酸的摩爾濃度為15％，步驟s202的返工片浸泡時間為20分鐘。

6.根據權利要求1所述的一種光伏硅片擴散后藍黑點的去除方法，其特征在于步驟s203中：第二個氫氟酸槽中氫氟酸的摩爾濃度為15％，雙氧水的摩爾濃度為10％，步驟203的返工片浸泡時間為15分鐘。

7.根據權利要求1所述的一種光伏硅片擴散后藍黑點的去除方法，其特征在于步驟s204的返工片浸泡時間為3分鐘。