[發明專利]一種氧化鈰制備方法及含有該氧化鈰的CMP拋光液在審
| 申請號： | 201611231305.9 | 申請日： | 2016-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN108249469A | 公開（公告）日： | 2018-07-06 |
| 發明（設計）人： | 尹先升;賈長征;王雨春;李守田 | 申請（專利權）人： | 安集微電子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分類號： | C01F17/00 | 分類號： | C01F17/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律師事務所 11352 | 代理人： | 李佳銘;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦東新區華東路*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化鈰 制備 氧化鈰顆粒 沉淀反應 拋光 鈰源 溶解 化學機械拋光液 磨料 拋光選擇比 有機酸溶液 拋光活性 水熱晶化 沉淀劑 分散性 拋光液 速率和 洗滌 冷卻 合成 應用 | ||
1.一種氧化鈰顆粒制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
溶解可溶性鈰源，向溶解后的鈰源水溶液中加入有機酸溶液，加入沉淀劑進行沉淀反應，沉淀反應結束后，進行水熱晶化反應，冷卻，洗滌純化，得到氧化鈰產物。
2.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，當沉淀漿料的pH達到7.0-12.0范圍時，停止添加沉淀劑。
3.如權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述沉淀劑為堿性可溶性化合物。
4.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述沉淀劑是氨水、氫氧化鈉、TMAH中的一種或多種。
5.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述鈰源選自硝酸鈰、氯化鈰、醋酸鈰中一種或多種。
6.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述有機酸選自檸檬酸、抗壞血酸中一種或多種。
7.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，以鈰離子計，所述鈰源的摩爾濃度為0.05M～1.0M。
8.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述有機酸的摩爾濃度為0.075M～1.25M。
9.如權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述沉淀劑的摩爾濃度為0.05M～1.0M。
10.如權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述沉淀反應的反應溫度范圍為30℃-50℃。
11.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述水熱反應的反應溫度范圍為80-200℃。
12.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述水熱反應的反應時間為0.5-10.0小時。
13.一種化學機械拋光液，其特征在于，包括利用如權利要求1-12任一所述的制備方法制備的氧化鈰顆粒。
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