[發明專利]一種通過高能電子輻照促進等規聚1-丁烯晶型II-I轉變的方法在審
| 申請號: | 201611227314.0 | 申請日: | 2016-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN108239294A | 公開(公告)日: | 2018-07-03 |
| 發明(設計)人: | 李景慶;蔡曉倩;蔣世春;尚英瑞 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | C08J3/28 | 分類號: | C08J3/28;C08L23/20 |
| 代理公司: | 天津創智天誠知識產權代理事務所(普通合伙) 12214 | 代理人: | 王秀奎 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高能電子輻照 聚1 -丁烯 等規 晶型II 共聚 丁烯 晶型 均聚 高能電子輻射 工藝過程 施加力 | ||
本發明公開一種通過高能電子輻照促進等規聚1?丁烯晶型II?I轉變的方法,對I晶型的等規聚1?丁烯進行高能電子輻照,采用高能電子輻射即可促進均聚iP?1?B中晶型II?I轉變。本發明適用于均聚iP?1?B,采用較為簡單的工藝過程,無需共聚或施加力場,可大大縮短此轉變時間,在較快時間內達到較高的轉化率,且無需共聚。
技術領域
本發明屬于聚合物加工技術領域,更加具體地說,涉及一種促進等規聚1-丁烯晶型II-I轉變的方法。
背景技術
等規聚1-丁烯(iP-1-B)是一種熱塑性聚烯烴,具有突出的抗蠕變性、抗沖擊性、耐化學性、耐環境應力開裂性和彈性恢復比高、硬度小等優點,但由于其在加工過程中因晶型轉變引起尺寸的收縮,應用受到限制。iP-1-B有著復雜的多晶型結構,在不同條件下結晶形成I、II、III、I′、II′五種不同晶型,熔體結晶形成四方晶系的晶型II,其分子鏈采用成對的113螺旋構象堆砌,在玻璃化溫度249K以上保留著大幅度的分子內運動性,熔融焓為3.5KJ·mol-1,密度為0.902g·cm-3,熔點為110-120℃。亞穩態的晶型II在室溫下逐漸轉變為六方晶晶型I,分子鏈采用更為緊密堆砌的31螺旋構象,熔融焓為7.9KJ·mol-1,密度為0.951g·cm-3。晶型II-I轉變對iP-1-B的力學性能如硬度、韌性、強度等影響較大,同時由于晶型I的熔點和熔融焓高于晶型II,晶型轉變還會影響iP-1-B的熱性能。對于iP-1-B均聚物,晶型II到晶型I的轉變在290-300K最快,但轉變基本完成仍需要一周左右。晶型II-I轉變受之前晶型II的形成條件影響,通過改變溫度、壓力等,或施加形變,添加成核劑或填料,即可改變晶型II的形成。晶型II向晶型I的轉變速率還依賴于其分子特性,如立構規整度等。晶型II-I轉變速率可通過1-丁烯與1-烷烴無規共聚進行調控,如與超過5個碳原子的線性1-烷烴和支化單體共聚會抑制晶型II-I轉變,而與乙烯、丙烯、1-戊烯共聚則會加快晶型轉變。但共聚會對iP-1-B的結晶過程起抑制作用,降低等規度,但共聚條件苛刻、反應受溫度、壓力溶劑等影響較大,工藝復雜,應用有限。
發明內容
本發明的目的在于克服現有技術的不足,提供一種在相對簡單的實驗條件以促進iP-1-B晶型II向晶型I轉變的方法,采用較為簡單的工藝過程,無需共聚或施加力場,只采用高能電子輻射即可促進均聚iP-1-B中晶型II-I轉變。本發明提供的技術方法可適用于均聚iP-1-B,其在通常情況下,從熔體降溫結晶,將得到熱力學亞穩態的II晶,轉變為熱力學穩定的I晶需要較長時間,而采用本發明提供的技術方法,可大大縮短此轉變時間,在較快時間內達到較高的轉化率,且無需共聚。
本發明的技術目的通過下述技術方案予以實現:
一種通過高能電子輻照促進等規聚1-丁烯晶型II-I轉變的方法,對I晶型的等規聚1-丁烯進行高能電子輻照,即高能電子輻照在促進等規聚1-丁烯晶型II-I轉變中的應用。
在上述技術方案中,高能電子輻照劑量為50—350KGy,優選150—300KGy,更加優選180—260KGy。
在上述技術方案中,I晶型的等規聚1-丁烯由均聚iP-1-B熔體模壓成型制備,模壓溫度為170-180℃,在預熱5—10min后,加壓至20—25MPa,保持3—5min后,在20—25MPa下冷壓8—10min,將得到的片狀樣品在室溫20—25攝氏度下長時間放置,以使II晶轉變為I晶,放置時間為20—30天。
在上述技術方案中,經高能電子輻照后I晶型的等規聚1-丁烯以3—5℃/min升溫至180—220℃并保溫3—5min,使其含有的I晶全部熔融,然后以10—15℃/min降溫到室溫結晶形成II晶,用X射線衍射(XRD)觀察iP-1-B晶型II-I轉變行為。
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