[發明專利]量子點膜層結構的制作方法在審
| 申請號： | 201611221391.5 | 申請日： | 2016-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN106920865A | 公開（公告）日： | 2017-07-04 |
| 發明（設計）人： | 劉雙良;左洪波;張學軍 | 申請（專利權）人： | 左洪波 |
| 主分類號： | H01L33/04 | 分類號： | H01L33/04;H01L33/00;H01L33/52 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 150001 黑龍江*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 量子 點膜層 結構 制作方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種量子點膜層結構的制作方法，其特征在于將量子點層制作于兩層派瑞林功能膜層之間，包括基板清洗、烘干、沉積派瑞林層、涂量子點層、固化、沉積派瑞林層、量子點膜層結構與基板之間進行剝離、防水性檢測；具體方法步驟為：
（1）將玻璃基板或PET膜進行清洗并烘干；
（2）用真空氣相沉積的方法將派瑞林均勻沉積在基板表面，沉積厚度2~100μm左右；
（3）量子點陣列排布要求依次在基板上涂上量子點后進行固化；
（4）用真空氣相沉積的方法再次沉積派瑞林膜層；
（5）將量子點膜層從玻璃基板或PET膜上剝離開來，成為量子點膜層成品；
（6）做膜層防水性檢測。
2.根據權利要求1所述的一種量子點膜層結構的制作方法，其特征在于所述的量子點膜層為AB膠或其他相類似膠水與量子點混合的形式，精密涂覆在基板上。
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