[發明專利]量子點膜層結構的制作方法

在審

• 申請號: 201611221391.5
• 申請日: 2016-12-27
• 公開（公告）號: CN106920865A
• 公開（公告）日: 2017-07-04
• 發明（設計）人: 劉雙良;左洪波;張學軍
• 申請（專利權）人: 左洪波
• 主分類號: H01L33/04
• 分類號: H01L33/04;H01L33/00;H01L33/52
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

（一）技術領域

本發明屬于LED封裝技術領域，具體涉及一種在量子點膜層結構的制作方法。

（二）背景技術

量子點（Quantum Dot，簡稱QD）是一種納米材料，是由鋅、鎘、硒、硫等元素化合成的半導體材料制成，直徑2～10nm的納米粒子，具有發光效率高，使用壽命長，顏色純度好的特點。量子點一般為球形，不同形狀和尺寸的量子點其光學和電子特性也會不同。通過改變量子點材料的尺寸和化學組成可以使其熒光發射波長覆蓋整個可見光區。

現存的量子點技術主要有兩種──光致發光（PL）和電致發光（EL），現在商用的都是PL技術的量子點，而PL技術的量子點有兩種產品——管狀和薄膜狀的。QLED就是以量子點材料代替傳統LED中的熒光粉發光層制成的LED即QLED。由于QD極易氧化，一點空氣或水都會徹底毀掉量子點。因此，若要在空氣中使用，必須將量子點進行隔絕空氣和水的處理。

目前QD應用的時候通常采用的方式：1）將QD灌注在玻璃細管內，兩邊做封裝處理；2）用高端雙層防潮和抗氧化膜雙層封裝保護。這兩種方式完全依賴進口，成本高。另外，尺寸必須根據產品定制，無法在成品后根據尺寸任意切割，進而無法實現標準化，。以上兩種方式均實現工業化生產與普及。

目前，國內在量子點顯示技術的研發和產業還無法和外國企業相比，隨著量子點顯示技術日益受到關注，本土企業開始關注該顯示技術在產業化方面的進程。

（三）發明內容

本發明的目的是提供一種量子點膜層結構的制作方法，該膜層可將量子點密封在兩層功能膜層之間，一方面使其可以在空氣中使用，減少環境的限制，另一方面便于提高后續Q-LED模組的封裝效率。

本發明的目的是這樣實現的：派瑞林（parylene）層具有優異的電絕緣性和防護性，是有效的防潮、防腐保護性涂覆材料。將量子點層制作于兩層派瑞林功能膜層之間，使QD與外界環境隔離。具體步驟為：基板清洗、烘干、沉積派瑞林層、涂量子點層、固化、沉積派瑞林層、量子點膜層結構與基板之間進行剝離、防水性檢測。

該發明具體方法步驟為：

（1）將玻璃基板或PET膜進行清洗并烘干；

（2）用真空氣相沉積的方法將派瑞林均勻沉積在基板表面，沉積厚度2~100μm左右；

（3）量子點陣列排布要求依次在基板上涂上量子點后進行固化；

（4）用真空氣相沉積的方法再次沉積派瑞林膜層；

（5）將量子點膜層從玻璃基板或PET膜上剝離開來，成為量子點膜層成品；

（6）做膜層防水性檢測。

本發明還有這有一些技術特征：

1、所述的基板可以采用玻璃、PET薄膜等材料。

2、所述的量子點膜層可采用相關載體，如AB膠或其他相類似膠水與量子點混合的形式，精密涂覆在基板上。

本發明的有益效果是：1）派瑞林層具有非常優異的電絕緣性和防護性，將量子點層制作于兩層派瑞林功能膜層之間，使QD與外界環境完全隔離，可以避免QD與空氣和水接觸，使其可以在120℃下夠長時間使用不受水和空氣的影響，減少環境條件的限制；2）將量子點制成軟膜結構，可根據需要產品尺寸靈活的進行切割，進行后續QLED模組的制備，提高封裝效率。

（四）附圖說明

圖1為量子點膜層結構制作流程；

圖2為量子點膜層結構側視圖。

（五）具體實施方式

下面結合附圖和具體實施方式對本發明進行詳細說明。

結合圖1-2，本實施例首先將玻璃基板1進行清洗并烘干，以驅除水分子；用真空氣相沉積的方法將派瑞林2均勻沉積在玻璃基板表面，沉積厚度80μm左右；按量子點陣列排布要求依次在派瑞林膜層上涂量子點3后進行固化；再次在玻璃基板1有量子點的一面沉積派瑞林層4，將量子點封閉在兩層派瑞林之間；將量子點膜層從玻璃基板上剝離開來。最后，做防水性檢測。

采用兩層派瑞林膜層包覆量子點可以起到更好的防護作用，但基于派瑞林膜層優異的滲透性能，涂上量子點固化后，涂層能夠滲透到量子點層，因此，僅沉積一層派瑞林層也可以實現防護功能，即只沉積派瑞林2層。

以上內容是結合具體的優選實施方式對本發明所做的進一步詳細說明，不能認定本發明的具體實施只限于這些說明。對于具有本發明所屬領域基礎知識的人員來講，可以很容易對本發明進行變更和修改，這些變更和修改都應當視為屬于本發明所提交的權利要求書確定的專利保護范圍。